[其他]微型箔式電阻應變計的制造方法

在審

• 申請號: 101985000000133
• 申請日: 1985-04-01
• 公開（公告）號: CN85100133B
• 公開（公告）日: 1988-03-23
• 發明（設計）人: 馮仁賢;揚風河;陸符聰
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 代理公司: 清華大學專利事務所
• 代理人: 張秀珍

1、一種微型箔式電阻應變計的制造方法，其中，用離心法制光刻膠膜，用三氯化鐵腐蝕液腐蝕康銅箔，其特征在于，光刻應度計敏感柵用的光刻膠是采用鄰疊苯氮醌型光刻膠-212^＃正性光刻膠，曝光光源為球型汞燈，采用0.8～12%氫氧化鉀溶液作顯影液，用離心法制基底膜，所說的三氯化鐵腐蝕液的濃度為55～60℃（波美），溫度為40℃～50℃，腐蝕時間為8～12分鐘。

2、根據權利要求1所說的一種微型箔式電阻應變計的制造方法，其特征在于所說的光刻膠膜的制膜過程為，將光刻膠液滴在箔材上，置于轉速為800～1000轉/分的離心機上旋轉1-3分鐘后，取下送入升溫至80℃～90℃的烘箱內，烘烤后，箔材冷至室溫即成。

3、根據權利要求1所說的一種微型箔式電阻應變計的制造方法，其特征在于所說的顯影過程是，將曝光后的箔材置于0.8～12%氫氧化鉀顯影液內，其溫度控制在22℃-25℃，均勻晃動后，置于離心機上甩干，取下后在室溫下自然干燥。

4、根據權利要求1所說的一種微型箔式電阻應變計的制造方法，其特征在于所說的用離心法制基底膜的過程為，將箔材放在玻璃板上，取3～5ml的聚乙烯醇縮醛基底膠滴在箔材上，置轉速750～800轉/分的離心機上旋轉3～5秒鐘，自然干燥之后，送入烘箱內進行固化處理而制成。