[其他]用于云紋干涉法的閃耀衍射光柵及試件柵制備工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101985000000054 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100054B | 公開（公告）日： | 1986-10-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 傅承誦;吳振華;戴福隆 | 申請（專利權(quán)）人： | 清華大學;北京光學儀器廠 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 清華大學專利事務(wù)所 | 代理人： | 張秀珍 |
| 地址： | 北京市海*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于云紋干涉法中的閃耀衍射光柵。本發(fā)明屬用光學方法和衍射光柵元件測量固體的變形。本發(fā)明為用于云紋干涉法中的位相型閃耀衍射光柵。其斷面形狀為等腰三角形。密度為５０～１２００線／毫米的平行柵和正交柵。復制在試件表面上形成試件柵。選擇等腰三角形的斜面傾角β和光柵節(jié)距ｐ，使入射的相干準直光在所需要的ｍ衍射極上進行閃耀，獲得最大光強。利用衍射波前的干涉，可以獲得代表試件表面的位移場和應(yīng)變場的高靈敏度、高反差的云紋干涉條紋圖。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 干涉 閃耀 衍射 光柵 試件柵 制備 工藝 | ||
【主權(quán)項】：
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