[其他]用于云紋干涉法的閃耀衍射光柵及試件柵制備工藝在審
| 申請號： | 101985000000054 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100054B | 公開（公告）日： | 1986-10-22 |
| 發明（設計）人： | 傅承誦;吳振華;戴福隆 | 申請（專利權）人： | 清華大學;北京光學儀器廠 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 清華大學專利事務所 | 代理人： | 張秀珍 |
| 地址： | 北京市海*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 干涉 閃耀 衍射 光柵 試件柵 制備 工藝 | ||
【權利要求書】：
1、一種由柵體和基體構成的光柵，其特征是用于云紋干涉法中的位相型閃耀衍射光柵，其溝槽斷面形狀為等腰三角形。
2、按照權利要求1所說的光柵，其特征在于該光柵為平行柵，柵線密度為50～1200線/毫米。
3、按照權利要求1所說的光柵，其特征在于該光柵為正交網格柵，柵線密度為50～1200線/毫米。
4、按照權利要求1，2，3所說的光柵，其特征在于所說的光柵是反射式閃耀衍射光柵，柵體為金屬反射層（1）和膠層（2）組成，基體（3）為金屬材料或玻璃、塑料、陶瓷等非金屬材料（圖1）。
5、按照權利要求1，2，3所說的光柵，其特征在于該光柵為透射式閃耀衍射光柵，柵體為透明膠層（4），基體（3′）為玻璃、石英、透明塑料等透明材料。
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