[發(fā)明專利]依普西龍衍生物和它們的合成與用途無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 99807769.0 | 申請(qǐng)日: | 1999-06-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1306531A | 公開(公告)日: | 2001-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | K·C·尼古拉奧;N·P·金;M·R·V·芬雷;Y·何;F·羅施安格;D·沃爾-路密斯;H·瓦爾博格;A·比高特 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 諾瓦提斯公司;斯克里普思研究院 |
| 主分類號(hào): | C07D417/06 | 分類號(hào): | C07D417/06;C07D493/04;A61K31/425;//;31300;30300) |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 劉明海 |
| 地址: | 瑞士*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 依普西龍 衍生物 它們 合成 用途 | ||
1、由式Ⅰ代表的化合物,其中
波形鍵表示鍵“a”是以順式或反式構(gòu)型存在的;
(ⅰ)R2不存在或者是氧;“a”既可以是單鍵,也可以是雙鍵;“b”既可以不存在,也可以是單鍵;“c”既可以不存在,也可以是單鍵,其條件是如果R2是氧,那么“b”和“c”都是單鍵,“a”是單鍵;如果R2不存在,那么“b”和“c”不存在,“a”是雙鍵;如果“a”是雙鍵,那么R2、“b”和“c”不存在;
R3是選自下組的原子團(tuán):氫;低級(jí)烷基,尤其是甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、正己基;-CH=CH2;-C≡CH;-CH2F;-CH2Cl;-CH2-OH;-CH2-O-(C1-C6烷基),尤其是-CH2-O-CH3;-CH2-S-(C1-C6烷基),尤其是-CH2-S-CH3;
R4和R5獨(dú)立地選自氫、甲基或保護(hù)基團(tuán),優(yōu)選為氫;
R1是選自下列結(jié)構(gòu)的原子團(tuán):
其中R和R’是低級(jí)烷基,或者R’是羥甲基或氟甲基,R是氫或甲基;
(ⅱ)如果R3是低級(jí)烷基,尤其是甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、正己基;-CH=CH2;-C≡CH;-CH2F;-CH2Cl;-CH2-OH;-CH2-O-(C1-C6烷基),尤其是-CH2-O-CH3;-CH2-S-(C1-C6烷基),尤其是-CH2-S-CH3,除R1以外的其他符號(hào)具有上文給出的含義,那么R1也可以是選自下列結(jié)構(gòu)的原子團(tuán):
或者,如果R3具有上述(ⅱ)下R3定義中給出的含義之一,甲基除外,那么R1也可以是下式原子團(tuán):
(ⅲ)如果R3是氫;低級(jí)烷基,尤其是甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、正己基;-CH=CH2;-C≡CH;-CH2F;-CH2Cl;-CH2-OH;-CH2-O-(C1-C6烷基),尤其是-CH2-O-CH3;-CH2-S-(C1-C6烷基),尤其是-CH2-S-CH3,R2是氧,“b”和“c”各自是單鍵,“a”是單鍵,那么R1也可以是部分結(jié)構(gòu)式的原子團(tuán):或
(ⅳ)如果R3是除甲基以外的低級(jí)烷基,尤其是乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、正己基;或者優(yōu)選為-CH=CH2;-C≡CH;-CH2F;-CH2Cl;-CH2-OH;-CH2-O-(C1-C6烷基),尤其是-CH2-O-CH3;-CH2-S-(C1-C6烷基),尤其是-CH2-S-CH3,除R1以外的其他符號(hào)具有上述(ⅰ)下給出的含義,那么R1也可以是下式部分:
或式Ⅰ化合物的鹽,其中存在成鹽基團(tuán)。
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