[發明專利]高性能復合膜無效
| 申請號: | 99806979.5 | 申請日: | 1999-05-18 |
| 公開(公告)號: | CN1304329A | 公開(公告)日: | 2001-07-18 |
| 發明(設計)人: | 威廉·C·賴斯;約翰·P·普格利亞 | 申請(專利權)人: | 科克梅姆布萊尼系統公司 |
| 主分類號: | B01D69/12 | 分類號: | B01D69/12;B05D1/36 |
| 代理公司: | 柳沈知識產權律師事務所 | 代理人: | 巫肖南 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 性能 復合 | ||
1.一種連續涂布多孔基質制備復合過濾膜的方法,包括以下步驟:提供第一液體組分;提供第一涂布機用于將所述第一液體組分涂布于所述基質之上;通過所述基質和所述第一涂布機彼此相對移動使定量的所述第一組分涂于所述基質上形成液體層;提供第二液體組分;提供與所述第一涂布機串列的第二涂布機用于涂布所述第二液體組分;通過涂有所述液體層的所述基質和所述第二涂布機彼此相對移動使定量的所述第二液體組分涂布在所述液體層之上而使所述第二液體組分與所述液體層接觸;使所述第一和第二液體組分界面聚合形成復合層;和干燥所述復合層形成復合膜。
2.權利要求1的方法,其中所述復合層的厚度在25°A和1微米之間。
3.權利要求1的方法,其中所述基質和所述涂布機的相對移動包括在所述第一涂布機和所述第二涂布機下移動所述基質。
4.權利要求3的方法,其中所述基質以在約20至200ft/min之間的線速度移動。
5.權利要求1的方法,其中所述第一涂布機包括補償槽輥涂布機。
6.權利要求1的方法,其中所述第一涂布機包括縫模涂布機。
7.權利要求1的方法,其中所述第二涂布機包括縫模涂布機。
8.權利要求1的方法,其中所述基質包括由載體基料支撐的不對稱微孔聚合物,所述基質具有超濾性能。
9.權利要求1的方法,其中所述復合膜包括反滲透膜。
10.權利要求9的方法,其中所述第一液體組分包括第一反應物的水溶液。
11.權利要求10的方法,其中所述第一反應物包括間苯二胺。
12.權利要求10的方法,其中所述水溶液還包含表面活性劑。
13.權利要求9的方法,其中所述第二液體組分包括有機溶液。
14.權利要求13的方法,其中所述有機溶液包含第二反應物和共溶劑。
15.權利要求14的方法,其中所述第二反應物選自苯三甲酰氯、氰尿酰氯、二氯甲基吡啶、和改性的三嗪部分。
16.權利要求14的方法,其中所述共溶劑包括烴類溶劑和高沸點溶劑。
17.權利要求9的方法,其中所述第一液體組分包括第一反應物的水溶液,所述第二液體組分包括第二反應物和共溶劑的有機溶液。
18.權利要求17的方法,其中所述第一反應物與所述第二反應物之摩爾比為化學計量比。
19.權利要求17的方法,其中所述第一反應物包括間苯二胺,所述第二反應物包括苯三甲酰氯。
20.權利要求19的方法,其中所述第一反應物與所述第二反應物之摩爾比為3∶2。
21.權利要求1的方法,其中所述復合膜包括毫微過濾膜。
22.權利要求21的方法,其中所述第一液體組分包括第一反應物的水溶液。
23.權利要求22的方法,其中所述第一反應物包括重均分子量約60000的聚乙烯亞胺。
24.權利要求22的方法,其中所述水溶液還包含表面活性劑。
25.權利要求21的方法,其中所述第二液體組分包括有機溶液。
26.權利要求25的方法,其中所述有機溶液包含第二反應物和共溶劑。
27.權利要求26的方法,其中所述第二反應物有能與分子反應的親核位點,其選自氰尿酰氯、氯化吡啶、氯化嘧啶、和改性的三嗪部分。
28.權利要求21的方法,其中所述第一液體組分包括第一反應物的水溶液,所述第二液體組分包括第二反應物和溶劑的有機溶液。
29.權利要求28的方法,其中所述第一反應物與所述第二反應物之摩爾比為化學計量比。
30.權利要求28的方法,其中所述第一反應物包括聚乙烯亞胺,所述第二反應物包括氰尿酰氯。
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