[發(fā)明專利]用于銅基材的化學機械拋光漿料有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 99806193.X | 申請日： | 1999-03-18 |
| 公開（公告）號： | CN1157450C | 公開（公告）日： | 2004-07-14 |
| 發(fā)明（設計）人： | 弗拉斯塔·B·考夫曼;羅德尼·C·基斯特勒;王淑敏 | 申請（專利權(quán)）人： | 卡伯特微電子公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;C09K3/14;//H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 基材 化學 機械拋光 漿料 | ||
【權(quán)利要求書】：
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