[發明專利]一種合成的層狀二氧化硅分子篩

無效

• 申請號: 99120816.1
• 申請日: 1999-09-22
• 公開（公告）號: CN1288857A
• 公開（公告）日: 2001-03-28
• 發明（設計）人: 程謨杰;包信和;譚大力;林勵吾
• 申請（專利權）人: 中國科學院大連化學物理研究所
• 主分類號: C01B33/113
• 分類號: C01B33/113
• 代理公司: 中國科學院沈陽專利事務所
• 代理人: 張晨

本發明涉及一種新型層狀全硅分子篩(命名為“SKLC-2”)以及應用六亞甲基亞胺為模板劑的制備方法。

沸石分子篩是一種無機微孔晶體材料，由于它們結構和性能特點，已被廣泛應用在催化、吸附和離子交換等各個領域。分子篩的酸性使得它們作為催化劑應用于各種烴類的反應，特別是利用分子篩規整的孔系統可以實現擇型催化反應。

沸石分子篩一般是由SiO₄，四面體和AlO₄四面體通過公共的氧原子連接形成的具有嚴格二維晶格結構。分子篩因AlO₄而荷的負電可由質子、堿金屬離子或者是堿土金屬離子中和。通常一種沸石分子篩的硅鋁比可以在一定范圍內改變。分子篩的骨架結構也可以全部由SiO₄四面體通過公共的氧原子連接形成，如全硅MFI分子篩Silicalite-1，全硅MEL分子篩Silicalite-2。

本發明的目的是提供一種合成的層狀二氧化硅分子篩，其具有與以往分子篩不同的結構，且可以通過或不通過金屬離子修飾用作催化劑。

本發明提供了一種合成的層狀二氧化硅分子篩，其原粉具有下述的X-射線粉未衍射特征：

d值??()?????????????????????????衍射相對強度(I/I₀％)

20.3±0.50?????????????????????????100

9.93±0.20?????????????????????????47±30

7.19±0.10?????????????????????????32±30

6.35±0.10?????????????????????????38±30

4.97±0.10?????????????????????????32±20

4.53±0.10?????????????????????????100

4.00±0.10?????????????????????????44±20

3.22±0.10?????????????????????????40±20

3.18±0.10?????????????????????????33±20

活化或離子交換后具有下述的X-射線粉未衍射特征

d值()?????????????????????????衍射相對強度(I/I₀％)

33.7±3.0??????????????????????????37±20

17.5±1.50?????????????????????????40±20

12.5±0.10?????????????????????????55±20

11.1±0.10?????????????????????????25±20

8.79±0.10?????????????????????????45±30

6.23±0.10?????????????????????????50±30

3.91±0.05?????????????????????????35±30

3.41±0.05?????????????????????????100

3.19±0.05?????????????????????????30±20

本發明中所述二氧化硅分子篩原粉中還可以含有雜質，組成為(0.0005-0.01)Na₂O∶(1-4)R∶SiO₂，其中R代表六亞甲基亞胺。本發明還提供了上述層狀二氧化硅分子篩的制備方法，其特征在于：由氫氧化鈉、去離子水和六亞甲基亞胺制備混合溶液，并攪拌均勻，在室溫和攪拌下，向上述溶液中加入硅溶膠，得到的混合物在室溫下繼續攪拌一小時，反應混合物的摩爾組成比為：H₂O/SiO₂＝10-100；OH^-1/SiO₂＝0.01-1.0；M/SiO₂＝0.01-2.0；R/SiO₂＝0.05-1.0；其中M代表堿金屬或堿土金屬，R代表六亞甲基亞胺；反應混合物在高壓釜內150℃晶化24-72小時，晶化產物分離，去離子水洗滌至PH值為7-9，然后在120℃干燥，分子篩在空氣中540℃焙燒除去有機組分。