[發明專利]一種金剛石膜的高效拋光加工方法無效
| 申請號： | 99104906.3 | 申請日： | 1999-03-09 |
| 公開（公告）號： | CN1266111A | 公開（公告）日： | 2000-09-13 |
| 發明（設計）人： | 王成勇;郭鐘寧;魏昕 | 申請（專利權）人： | 廣東工業大學 |
| 主分類號： | C25F3/16 | 分類號： | C25F3/16;C23C16/26;C23C16/56 |
| 代理公司： | 廣東世紀專利事務所 | 代理人： | 劉卉 |
| 地址： | 510090 *** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 金剛石 高效 拋光 加工 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種金剛石膜的高效拋光加工方法，其特征在于首先在金剛石膜表面涂覆一層金屬涂覆層，然后進行電蝕加工。
2、根據權利要求1所述金剛石膜的高效拋光加工方法，其特征在于上述電蝕加工完成后還進行表面清洗和超精加工。
3、根據權利要求1所述金剛石膜的高效拋光加工方法，其特征在于上述金屬涂覆層的厚度為金剛石膜表面粗糙度Ra的0.005倍-0.05倍。
4、根據權利要求1或2或3所述金剛石膜的高效拋光加工方法，其特征在于上述金屬涂覆層通過化學鍍或真空蒸發鍍的方法鍍在金剛石膜表面。
5、根據權利要求1或2或3所述金剛石膜的高效拋光加工方法，其特征在于上述金屬涂覆層的材料為鎳、銅、鈦金屬或其合金。
6、根據權利要求1所述金剛石膜的高效拋光加工方法，其特征在于上述電蝕加工采用立式旋轉電極的平面電蝕拋光加工方法。
7、根據權利要求1或6所述金剛石膜的高效拋光加工方法，其特征在于上述電蝕加工的工藝參數如下：加工電流0.2-4.0A，電源脈寬1-40us，電源脈間5-24us，電極旋轉轉速700-1500vmp。
8、根據權利要求1或6所述金剛石膜的高效拋光加工方法，其特征在于上述電板的幾何形狀為柱形或帶螺旋槽的柱形。
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