[發(fā)明專利]字型產(chǎn)生法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 99100828.6 | 申請日: | 1999-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN1099643C | 公開(公告)日: | 2003-01-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄭國揚 | 申請(專利權(quán))人: | 華康科技開發(fā)股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F15/00 | 分類號: | G06F15/00;G06K9/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 湯保平 |
| 地址: | 臺灣省臺北市*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 字型 產(chǎn)生 | ||
1、一種字型產(chǎn)生法,用以產(chǎn)生保持字型風(fēng)貌于各解像度空間的字型點矩陣影像,并顯示于不同解像度空間需求的輸出儀器上,其特征在于每一個被產(chǎn)生的字型是由一組筆劃導(dǎo)向圖樣所定義,此種方法包括下列步驟:
(1)選一字型顯示于輸出儀器上;
(2)擷取于該字型相關(guān)的預(yù)存筆劃導(dǎo)向圖樣,其中預(yù)存的筆劃導(dǎo)向
圖樣包含有至少一個筆劃碼的預(yù)制關(guān)鍵點和寬度外顯數(shù)據(jù)及定義
圖樣形狀的特征點以及曲線段的參數(shù)值的隱含數(shù)據(jù);
(3)決定輸出儀器的解像度空間的范圍;
(4)呈現(xiàn)被擷取的筆劃導(dǎo)向圖樣于字型空間上以產(chǎn)生該字型,是根
據(jù)輸出儀器的解像度的層級,以及其相關(guān)預(yù)存筆劃導(dǎo)向圖樣的外
顯及隱含數(shù)據(jù)值。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的字型產(chǎn)生法,其特征在于第(1)步的每個圖樣至少包含一個筆劃的資訊。
3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的字型產(chǎn)生法,其特征在于定義一個圖樣的各個筆劃的外顯數(shù)據(jù)包含關(guān)鍵點和寬度。
4、根據(jù)權(quán)利要求2所述的字型產(chǎn)生法,其特征在于定義一個圖樣的各個筆劃的隱含數(shù)據(jù)包含特征點及曲線值,且在該圖樣的重疊筆劃相交的資訊,系由特征點、曲線值、及輸出儀器的解像度層級所定義。
5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的字型產(chǎn)生法,其特征在于第(4)步的呈現(xiàn)被擷取的筆劃導(dǎo)向圖樣于字型空間上以產(chǎn)生該字型,更進一步地包含將圖樣里相交筆劃的外圍形狀涂黑以呈現(xiàn)每一個圖樣。
6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的字型產(chǎn)生法,其特征在于特征點、曲線值、以及曲線段相交的資訊,是和解像度層級范圍有關(guān),亦即解像度層級會影響特征點、曲線值、以及曲線段相交點在字型空間上的實際位置。
7、根據(jù)權(quán)利要求5所述的字型產(chǎn)生法,其特征在于更進一步地包含呈現(xiàn)一個圖樣在字型顯像空間的手段,該手段會根據(jù)輸出儀器的顯像度層級來微調(diào)圖樣形狀,亦即會藉由移動原預(yù)存關(guān)鍵點位置后再來計算特征點、曲線值、以及曲線段相交點,以達到微調(diào)圖樣形狀的效果。
8、一種字型產(chǎn)生法,其特征在于筆劃基礎(chǔ)的字型系由至少一個筆劃所定義,每個筆劃的形狀系由至少兩個關(guān)鍵點和至少一個寬度值,以及特征點和曲線段所定義,且在呈現(xiàn)筆劃形狀時是與解像度層級范圍相關(guān),此種方法包含:
(1)從一組筆劃基礎(chǔ)字型擷取相似圖樣,其中一個圖樣至少包含一
個筆劃;
(2)若相似圖樣包含重疊相交筆劃時,則決定在不同解像度層級的
重疊筆劃分別的曲線段的相交狀況;
(3)測試相似圖樣在各個字型上是否可被正確生成,亦即它們皆有
相同的重疊筆劃相交狀況,以決定用一個基本圖樣來定義這些相
似圖樣;
(4)儲存相似圖樣的筆劃資訊以及它們在不同解像度層級的相交
曲線段,以構(gòu)成一個基本圖樣;
(5)重復(fù)(1)~(4)的步驟,一直到一組筆劃基礎(chǔ)字型的所有字
型皆可被基本圖樣所確認為止。
9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的字型產(chǎn)生法,其特征在于更進一步地包含將對應(yīng)的筆劃基礎(chǔ)字型以基本圖樣傳送的動作。
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