[發(fā)明專利]以運動補償時間內(nèi)插圖像的方法及設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 98119200.9 | 申請日: | 1998-09-16 |
| 公開(公告)號: | CN1212579A | 公開(公告)日: | 1999-03-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 讓-伊威斯·巴鮑恩尼奧;杰勒德·布賴恩德;揚妮克·奧利維爾;菲利普·羅伯特 | 申請(專利權(quán))人: | 湯姆森多媒體公司 |
| 主分類號: | H04N7/46 | 分類號: | H04N7/46 |
| 代理公司: | 柳沈知識產(chǎn)權(quán)律師事務(wù)所 | 代理人: | 呂曉章 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 運動 補償 時間 內(nèi)插 圖像 方法 設(shè)備 | ||
1.一種時間內(nèi)插方法,借助了對位于圖像n-1和圖像n之間的圖像j進行的運動補償,它對圖像n-1和圖像n之間的運動進行估計(1),以提供運動矢量場V(n-1,n),并且根據(jù)該運動矢量場內(nèi)插(2)圖像j,其特征在于:檢測(3)缺陷運動矢量,以及對與這些缺陷矢量對應(yīng)的內(nèi)插圖像區(qū)域進行低通濾波(4)。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述缺陷運動矢量根據(jù)用于測量運動矢量局部空間非相干性的方差信息來確定。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述對所述方差值進行濾波。
4.如前述權(quán)利要求之一所述的方法,其特征在于,在所述缺陷運動矢量的檢測之后是形態(tài)學消蝕和擴展操作。
5.如權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,所述形態(tài)學消蝕操作所用的結(jié)構(gòu)單元是3×3像素大小的窗口。
6.如權(quán)利要求4或5所述的方法,其特征在于,低通濾波所采用的濾波窗口對于擴展操作之后標記的像素比對于消蝕操作之后得到標記的像素要小。
7.如權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,對于消蝕之后得到的像素所采用的濾波窗口的大小是5×5像素,對于擴展之后得到的像素所采用的濾波窗口的大小是3×3像素。
8.如前述權(quán)利要求之一所述的方法,其特征在于,內(nèi)插和濾波應(yīng)用于色度信號。
9.一種執(zhí)行如權(quán)利要求1所述方法的設(shè)備,包括:運動估計器(1),它接收圖像n-1和圖像n,以計算運動矢量場V(n-1,n);內(nèi)插電路(2),它根據(jù)這兩個圖像n-1、n和該運動矢量場,計算內(nèi)插圖像Y(j),其特征在于還包括:檢測缺陷運動矢量的電路(3),其接收運動矢量場;以及低通濾波電路(4),用于根據(jù)檢測電路(3)傳送的信息對所述內(nèi)插圖像進行濾波。
10.如權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其特征在于,所述檢測電路(3)根據(jù)方差信息來檢測所述缺陷運動矢量。
11.如權(quán)利要求9或10所述的設(shè)備,其特征在于,所述缺陷矢量檢測電路(3)提供識別與所述缺陷運動矢量有關(guān)的像素的二值圖像,并且在此圖像上執(zhí)行形態(tài)學消蝕和擴展操作,以便向所述低通濾波器(4)提供三值圖像。
12.如權(quán)利要求9、10或11所述的設(shè)備,其特征在于,在尺寸小于用于消蝕操作后得到標記的像素的濾波窗口的用于擴展運算之后標記的像素的濾波窗口上,執(zhí)行所述內(nèi)插圖像的低通濾波。
13.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備,其特征在于,所述濾波電路(4)根據(jù)測量所述運動矢量局部空間非相干性的方差確定所述低通濾波器的系數(shù)。
14.如權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其特征在于,所述內(nèi)插電路(2)內(nèi)插色度圖像,并且所述濾波電路對所述內(nèi)插的色度圖像進行濾波。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于湯姆森多媒體公司,未經(jīng)湯姆森多媒體公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/98119200.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





