[發明專利]光學信息記錄媒體及其制造方法有效
| 申請號: | 98109250.0 | 申請日: | 1998-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN1198568A | 公開(公告)日: | 1998-11-11 |
| 發明(設計)人: | 音羽真由美;山田升;大田啟之;大野銳二;河原克己 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/24 | 分類號: | G11B7/24 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 葉愷東,王岳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 信息 記錄 媒體 及其 制造 方法 | ||
1.一種光學信息記錄媒體,具有光學特性可逆變化的信息層、以GeXN和GeXON中選出的任一種為主要成分的含Ge層,其特征在于所述X由從下述元素中選出的至少一種元素構成:IIIa族元素、IVa族元素、Va族元素、VIa族元素、VIIa族元素、VIII族元素、Ib族元素、IIb族元素和C。
2.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于含Ge層接在信息層的至少一面。
3.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于含Ge層接在信息層的兩面。
4.根據權利要求3的光學信息記錄媒體,其特征在于信息層兩面上的含Ge層中的X含有率不同。
5.根據權利要求3的光學信息記錄媒體,其特征在于從信息層方向看,位于激光入射側的含Ge層具有用(Ge1-mXm)aObNc(0<m<1、a>0、b≥0、c>0、a+b+c=100)表示的組成;位于與所述激光入射側相反的側的含Ge層具有用(Ge1-nXn)dOeNf(0<n<1、d>0、e≥0、f>0、d+e+f=100)表示的組成;且滿足m<n的關系。
6.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于含Ge層中的Ge和X的組成比用Ge1-kXk(0<k≤0.5)表示。
7.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于含Ge層中的(GeX)、O和N的組成比處在(GeX)、O、N三元組成圖中的組成點A((GeX)90.0O0.0N10.0)、B((GeX)83.4O13.3N33)、C((GeX)35.0O0.0N65.0)、D((GeX)31.1O55.1N13.8)圍成的范圍內。
8.根據權利要求7的光學信息記錄媒體,其特征在于含Ge層中包含的Ge和X的組成比用Ge1-pXP(0<P≤0.5)表示。
9.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于含Ge層的膜厚大于1nm。
10.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于X包含從Cr、Mo和Mr中選出的至少一種元素。
11.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于X包含從Ti、Zr、Nb和Ta中選出的至少一種元素。
12.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于X包含從Fe、Co和Ni中選出的至少一種元素。
13.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于X包含從Y和La中選出的至少一種元素。
14.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于信息層是從Te、Se和Sb中選出的某一種元素為主要成分的相變材料。
15.根據權利要求1的光學信息記錄媒體,其特征在于信息層是以Te、Sb和Ge三種元素為主要成分的相變材料。
16.一種光學信息記錄媒體的制造方法,具有光學特性可逆變化的信息層的成膜步驟和以GeXN和GeXON中選出的某一種材料為主要成分的含Ge層的成膜步驟,其特征在于用至少含Ge和X的靶,在含有稀有氣體和氮氣的混合氣體中,用反應性濺射法來制造所述含Ge層;其中所述X是從IIIa族元素、IVa族元素、Va族元素、VIa族元素、VIIa族元素、VII族元素、Ib族元素、IIb族元素和C中選出的至少一種元素。
17.根據權利要求16的光學信息記錄媒體的制造方法,其特征在于混合氣體還包含氧氣。
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