[發明專利]用于濾色片的施主膜有效
| 申請號: | 98106246.6 | 申請日: | 1998-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN1200489A | 公開(公告)日: | 1998-12-02 |
| 發明(設計)人: | 權章赫 | 申請(專利權)人: | 三星電管株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王其灝 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 濾色片 施主 | ||
本發明涉及用于濾色片的施主膜(donor?film),更準確地說,涉及使用熱轉移(thermal?transfer)方法生產濾色片的施主膜。
通過顏料分散、印刷或電解積附生產在液晶顯示器上獲得彩色的濾色片。
所述的顏料分散方法具有加工過程中的高再現性和精確度。但是,該生產過程太長且復雜。通過所述的印刷方法,生產過程簡單,但是,通過印刷方法生產的濾色片精確度差,及該濾色片不適合大型顯示裝置。通過所述的電解積附方法,使濾色片的平面性得到改善,但彩色特性差。
為了解決上述問題,已使用熱轉移方法生產所述的濾色片。所述的熱轉移方法是將包括轉移層(fransfer?layer)的施主膜布置在基片之上,然后將例如激光的光源照射到施主膜上以便轉移所述的轉移層到基片上的干燥方法。在熱轉移方法中,為了轉移轉移層需要許多能量,以致要求施主膜能夠穩定和有效地轉移。施主膜的結構通常根據被轉移物質的類型、轉移層的物理化學性質和能源類型而變化。
如圖1所示,施主膜包括支撐層11,將吸收的光能轉化成熱能,形成在支撐層上的吸光層12,和形成在吸光層上的轉移層13。
為完成本發明,我們已研究了施主膜的轉移層和吸光層的化學組成。
本發明的目的是使用熱轉移方法,提供形成具有精確性和優良的彩色特性濾色片的施主膜。
為了達到本發明的上述目的,在此提供的用于濾色片的施主膜包括支撐層、吸光層和轉移層,其中所述轉移層包括作為粘合樹脂的式(1)代表的丙烯酸樹脂(acryl?resin):
其中R1為氫或甲基;
R2為C1-C12烷基、C2-C10羥基烷基、取代或未取代芳族環、C5-C10環烷基或芐基;
R3為C1-C12烷基、取代或未取代芳族環、C5-C10環烷基或芐基;
X為乙烯基、環氧基或氫原子;
0.1≤a≤0.65,0.3≤b≤0.8和0≤c≤0.2(在此a、b和c代表摩爾份數,及a、b和c之和為1)。
式(1)代表的丙烯酸樹脂的玻璃化轉變溫度優選為30-150℃。如果丙烯酸樹脂的玻璃化轉變溫度低于30℃,則轉移層在室溫下不能保持穩定,及如果玻璃化轉變溫度高于150℃,則需要大量轉移能。
為保持在所要求水平的濾色片的耐熱性、透明性和分散度,丙烯酸樹脂的平均分子量優選為2×103-5×104。
根據所要求的特性,可以改變包括支撐層、吸光層和轉移層的施主膜的基本結構。
例如,在吸光層和轉移層之間可以形成產氣層(gas?producing?layer)以便增加施主膜的光敏性。所述產氣層包括由于從吸光層傳遞熱能而產生氣體的物質。氣體的產生有助于轉移層轉移到接受體上。
由于熱能產生氣體物質之一是產生氣體聚合物。該聚合物具有熱分解官能團,例如疊氮基、烷基偶氮、重氮基、重氮化、diazirino、硝基、二氟氨基、二硝基氟甲基(CF(NO2)2)、氰基、硝酸基和三唑基團。
在轉移層和吸光層之間也可以形成保護層。所述保護層便于轉移層從吸光層分離,防止吸光層對轉移層的污染。這里的保護層是由例如環氧異丁烯酸酯低聚物、氨基甲酸乙酯異丁烯酸酯低聚物、丙烯酰基異丁烯酸酯低聚物和酯異丁烯酸酯低聚物的異丁烯酸酯低聚物或所述低聚物之一和異丁烯酸酯單體的混合物使用UV-涂層(UV-coating)方法形成的。保護層也可以由使用UV-保護層方法的丙烯酸酯單體組成。
本發明的上述目的及優點通過優選實施例的詳細描述并參考其附圖將更加清楚,其中:
圖1表示一般施主膜的結構;和
圖2A和2B是圖解根據本發明使用施主膜生產濾色片的視圖。
根據本發明的施主膜包括支撐層、吸光層和轉移層,下文將詳細描述其組成。
所述的支撐層支撐其它層,并優選具有透射率為90%或90%以上。支撐層由聚酯、聚碳酸酯、聚烯烴、聚乙烯基樹脂,或優選具有高透明性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)所形成。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三星電管株式會社,未經三星電管株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/98106246.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:鎖相環電路和再現裝置
- 下一篇:高鎘含量銅鎘合金生產工藝





