[發明專利]吡唑并吡啶化合物及其藥學的用途無效
| 申請號： | 97197819.0 | 申請日： | 1997-07-17 |
| 公開（公告）號： | CN1230186A | 公開（公告）日： | 1999-09-29 |
| 發明（設計）人： | 赤羽厚;黑田聰;井谷弘道;清水康代 | 申請（專利權）人： | 藤澤藥品工業株式會社 |
| 主分類號： | C07D471/04 | 分類號： | C07D471/04;C07D453/02;A61K31/50;//;22100) |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 譚明勝 |
| 地址： | 日本大阪*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 吡唑 吡啶 化合物 及其 藥學 用途 | ||
1．下式(Ⅰ)的吡唑并吡啶化合物或其鹽：其中R1為芳基，
R2為具有包含1或2個硫原子和1至3個氮原子的3至8元不飽和雜單環基取代的低級烷基，它可以有1個或多個取代基；下式的基團：其中R3為氫、低級烷基、芳(低級)烷基或酰基，
R4為氫或羥基，
A為低級亞烷基，
m為0或1的整數，
n為1或2的整數；下式的基團：其中R5和R6各自為低級烷基；或奎寧環基。
2．權利要求1的化合物或其鹽，其中R1為苯基和R2為含有1至3個低級烷基的噻唑基取代的低級烷基；
下式的基團：
其中R3為氫、低級烷基、苯基(低級)烷基、低級鏈烷酰基、低級烷氧基羰基或苯基(低級)烷氧基羰基，
R4為氫或羥基，
A為低級亞烷基，
m為0或1的整數，
n為1或2的整數；
下式的基團：
其中R5和R6各自為低級烷基；
或奎寧環基。
3．權利要求2的化合物或其鹽，其中R2為含有1至3個低級烷基的噻唑基取代的低級烷基。
4．權利要求2的化合物或其鹽，其中R2為下式的基團：其中R3為氫、低級烷基、苯基(低級)烷基、低級鏈烷酰基、低級烷氧基羰基或苯基(低級)烷氧基羰基，
R4為氫或羥基，
A為低級亞烷基，
m為0或1的整數，
n為1或2的整數。
5．權利要求4的化合物或其鹽，其中R2為下式的基團：其中R3為氫、低級烷基、苯基(低級)烷基、低級鏈烷酰基或低級烷氧基羰基，
R4為氫，
A為低級亞烷基，
m為0，
n為1或2的整數。
6．權利要求5的化合物或其鹽，其中R2為下式的基團：其中R3為氫、低級烷基、苯基(低級)烷基、低級鏈烷酰基或低級烷氧基羰基，
R4為氫，
A為低級亞烷基，
m為0,
n為2。
7．權利要求6的化合物或其鹽，其中R2為下式的基團：其中R3為低級烷基，
R4為氫，
A為低級亞烷基，
m為0,
n為2。
8．權利要求4的化合物或其鹽，其中R4為下式的基團：其中R3為氫、低級烷基、低級鏈烷酰基或苯基(低級)烷氧基羰基，
R4為氫或羥基，
A為低級亞烷基，
m為1,
n為1或2的整數。
9．權利要求8的化合物或其鹽，其中R2為下式的基團：其中R3為氫或低級烷基，
R4為氫，
A為低級亞烷基，
m為1,
n為1或2的整數。
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