[發明專利]在平板玻璃上沉積氧化錫和二氧化鈦涂層的方法及所獲得的涂覆玻璃

有效

• 申請號: 97197266.4
• 申請日: 1997-08-12
• 公開（公告）號: CN1094113C
• 公開（公告）日: 2002-11-13
• 發明（設計）人: D·W·謝爾;R·J·麥克柯迪;S·J·赫斯特
• 申請（專利權）人: 皮爾金頓公共有限公司;利比－歐文斯－福特公司
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00;C03C17/245;C23C16/40
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 龍傳紅

1、在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其包括步驟：(a)制備含相應金屬四氯化物和作為用于形成金屬氧化物的氧源的含有機氧的化合物的前體氣體混合物，(b)保持所述前體氣體混合物在低于金屬四氯化物發生反應以形成金屬氧化物的溫度的溫度下，同時將該混合物輸送到通向熱玻璃的涂覆室中，(c)將前體氣體混合物加入涂覆室中，從而加熱該混合物以便結合來自有機化合物的氧將相應金屬氧化物沉積在熱玻璃表面上。

2、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中所述的含有機氧化合物是包含2至10個碳原子的酯，并且其中該酯的體積濃度是金屬四氯化物體積濃度的0.5至5倍。

3、根據權利要求2的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中所述的酯是具有帶β氫的烷基基團的酯。

4、根據上述權利要求任何之一的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中所述的酯選自由甲酸乙酯、乙酸乙酯、丙酸乙酯、甲酸異丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯和乙酸叔丁酯組成的該組中。

5、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中該基體是溫度為約1100-1320°F/590-715℃的浮法玻璃帶。

6、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中在前體氣體混合物中金屬四氯化物的濃度是約0.1-5.0體積％。

7、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中在前體氣體混合物中含有機氧化合物的濃度是金屬四氯化物濃度的約1至5倍。

8、根據權利要求2的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中所述的酯是乙酸乙酯，并且所述的熱平板玻璃是浮法玻璃帶。

9、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中在熱平板玻璃基體上有二氧化硅涂層，所述的氧化錫或二氧化鈦涂層沉積在該二氧化硅涂層上。

10、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中在該熱平板玻璃基體的硅涂層上具有二氧化硅涂層，并且所述的氧化錫或二氧化鈦涂層沉積在二氧化硅涂層上。

11、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中所述的二氧化鈦涂層的折射率大于2.4。

12、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中氧化錫或二氧化鈦涂層的殘余碳含量低于4原子％。

13、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中所述前體氣體混合物包括氦氣作為載氣。

14、根據權利要求2的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中酯具有2至10個碳原子的烷基。

15、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中以至少130埃/秒的速度沉積氧化錫或二氧化鈦膜。

16、根據權利要求1的以高的沉積速度在基體上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，包括步驟：(a)制備含四氯化錫或四氯化鈦和酯的前體氣體混合物，所述的酯是具有帶β氫的烷基基團的酯；(b)在低于所述酯的熱分解溫度的溫度下將所述的前體氣體混合物輸送到接近欲涂覆基體的位置，所述基體的溫度高于所述酯的熱分解溫度；和(c)將所述的前體氣體混合物引入所述基體上方的蒸汽空間，在這里所述酯熱分解，并因此激發與所述金屬四氯化物的反應，以便在所述基體上形成金屬氧化物涂層。

17、根據權利要求16的方法，其中基體是浮法玻璃帶。

18、根據權利要求16或17的方法，其中前體氣體混合物被輸送到處于基體溫度為590-715℃位置上的基體中。

19、根據權利要求1的在熱平板玻璃上沉積氧化錫或二氧化鈦涂層的方法，其中使前體氣體混合物在層流條件下流過玻璃表面。