[發明專利]拋光劑組合物無效
| 申請號： | 97126031.1 | 申請日： | 1997-12-05 |
| 公開（公告）號： | CN1185471A | 公開（公告）日： | 1998-06-24 |
| 發明（設計）人： | 三蒲司朗;河村篤紀;玉井一誠 | 申請（專利權）人： | 不二見株式會社 |
| 主分類號： | C09G1/18 | 分類號： | C09G1/18 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所 | 代理人： | 劉立平 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 拋光 組合 | ||
1.一種拋光劑組合物，包含氣相二氧化硅、堿性鉀化合物及水，其電導率為100-5,500μs/cm。
2.如權利要求1所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的堿性鉀化合物選自氫氧化物、磷酸鹽、焦磷酸鹽、亞磷酸鹽、碳酸鹽、硅酸鹽、硼酸鹽、次氯酸鹽、次溴酸鹽或羧酸鹽。
3.如權利要求1或2所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的堿性鉀化合物含量為基于拋光劑組合物總量的0.01-0.5％(重量)。
4.一種拋光劑組合物，包含氣相二氧化硅、含氮堿性化合物及水，其電導率為100-1,500μs/cm。
5.如權利要求4所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的含氮堿性化合物選自氫氧化銨、硅酸銨、磷酸銨、碳酸銨、硼酸銨、次氯酸銨、次溴酸銨或胺化合物。
6.如權利要求4或5所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的含氮堿性化合物含量為基于拋光劑組合物總量的0.01-1％(重量)。
7.如權利要求1-6之任一項所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的氣相二氧化硅具有5-80nm的初級粒子子平均粒徑。
8.一種拋光劑組合物，所述拋光劑組合物包括膠態二氧化硅及水，其電導率為30-5,000μs/cm。
9.如權利要求8所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述拋光劑組合物進一步包括堿性鉀化合物。
10.如權利要求9所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的堿性鉀化合物選自氫氧化物、磷酸鹽、焦磷酸鹽、亞磷酸鹽、碳酸鹽、硅酸鹽、硼酸鹽、次氯酸、次溴酸鹽或羧酸鹽。
11.如權利要求9或10所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的堿性鉀化合物的最大含量為基于拋光劑組合物總量的1.5％(重量)。
12.一種拋光劑組合物，包含膠態二氧化硅、含氮堿性化合物及水，其電導率為30-1,500μs/cm。
13.如權利要求12所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的含氮堿性化合物選自氫氧化銨、硅酸銨、磷酸銨、碳酸銨、硼酸銨、次氯酸銨、次溴酸銨或胺化合物。
14.如權利要求12或13所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的含氮堿性化合物含量為基于拋光劑組合物總量的0.01-0.5％(重量)。
15.如權利要求8-14之任一項所述的拋光劑組合物，其特征在于，所述的膠態二氧化硅具有5-200nm的初級粒子平均粒徑。
16.一種權利要求1、4、8或12所述的拋光劑組合物的用途，其特征在于，該用途是用于二氧化硅薄膜的拋光。
17.一種二氧化硅薄膜的拋光方法，其特征在于，是使用權利要求1、4、8或12所限定的拋光組合物對二氧化硅薄膜進行拋光。
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