[發(fā)明專利]磁性記錄介質(zhì)及其生產(chǎn)工藝

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 97119394.0
• 申請(qǐng)日: 1997-09-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN1178970A
• 公開(kāi)（公告）日: 1998-04-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大澤弘;渡邊裕之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昭和電工株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G11B5/82
• 分類號(hào): G11B5/82;G11B5/84
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 王永剛

1.包含在其上有形成磁性記錄層的襯底圓盤的磁性記錄介質(zhì)，所述襯底圓盤具有通過(guò)聚焦激光束使襯底表面起紋理而在其表面形成的多個(gè)微型凸起；其特征在于：襯底圓盤圓周方向上相鄰微型凸起的間距D的在一定范圍變化以滿足以下公式(1)：

1≤[(D_max-D_min)/D_avg]×100(％)≤200????(1)其中D_max，D_min和D_avg分別是最大間距，最小間距和平均間距，在襯底圓盤圓周方向上相鄰的微型凸起的間距D中，除去2.5％具有最大尺寸的間距D和除去2.5％具有最小尺寸的間距D，D_max，D_min和D_avg從剩余的95％的間距D中計(jì)算。

2.如權(quán)利要求1的磁性記錄介質(zhì)，其中所述微型凸起的平均直徑為1到10μm，平均高度為1到30nm以及在襯底圓盤圓周方向上的相鄰微型凸起的平均間距D_avg為1到50μm，微型凸起占襯底圓盤表面總面積的0.1到99.9％。

3.如權(quán)利要求1或2的磁性記錄介質(zhì)，其中襯底圓盤圓周方向上相鄰的微型凸起的所述間距D在一定范圍變化以滿足以下公式(3)：

10≤[(D_max-D_min)/D_avg]×100(％)≤150????(3)其中D_max，D_min和D_avg如權(quán)利要求1中所定義。

4.包括激光紋理處理襯底表面在表面形成多個(gè)微型凸起步驟的產(chǎn)生磁性記錄介質(zhì)的工藝，其特征在于：激光束以使得襯底圓盤圓周方向上相鄰的微型凸起的間距D在一定范圍變化以滿足以下公式(1)的方式聚焦：

1≤[(D_max-D_min)/D_avg]×100(％)≤200????(1)其中D_max，D_min和D_avg分別是最大間距，最小間距和平均間距，在襯底圓盤圓周方向上相鄰的微型凸起的間距D中，除去2.5％具有最大尺寸的間距D和除去2.5％具有最小尺寸的間距D，D_max，D_min和D_avg從剩余的95％的間距D中計(jì)算。

5.如權(quán)利要求4的生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)的工藝，其中所述激光束到襯底圓盤的聚焦是在激光束的脈沖重復(fù)頻率F以滿足以下公式(2)方式調(diào)制時(shí)完成的：

0.01≤[(F_max-F_min)/F_avg]≤100????(2)其中F_max，F(xiàn)_min和F_avg分別是激光束的脈沖重復(fù)頻率的最大值，最小值和平均值；

6.如權(quán)利要求5的生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)的工藝，其中所述激光束到襯底圓盤的聚焦的完成是在襯底圓盤和聚焦調(diào)制激光束的系統(tǒng)沿襯底圓盤徑向相互移動(dòng)時(shí)，和襯底圓盤以恒定角速度或以使得襯底圓盤的聚焦點(diǎn)相對(duì)于旋轉(zhuǎn)襯底圓盤以恒定的線速度沿襯底圓盤圓周方向移動(dòng)的速度旋轉(zhuǎn)時(shí)進(jìn)行的。

7.如權(quán)利要求4的生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)的工藝，其中激光束傳輸經(jīng)過(guò)掩模穿孔然后聚焦到襯底圓盤的表面；在掩模圓周方向上的相鄰穿孔間距D’，在一定范圍變化以滿足下面公式(4)：

1≤[(D’_max-D’_min)/D’_avg]×100(％)≤200????(4)其中D’_max，D’_min和D’_avg分別是最大間距，最小間距和平均間距，在掩模圓周方向上相鄰的穿孔的間距D’中，除去2.5％具有最大尺寸的間距D’和除去2.5％具有最小尺寸的間距D’，?D’_max，D’_min和D’_avg從剩余的95％的間距D’中計(jì)算。

8.如權(quán)利要求4的生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)的工藝，其中激光束通過(guò)一個(gè)具有反射角連續(xù)改變工作的鏡面的光學(xué)系統(tǒng)反射，以及反射的激光束聚焦到襯底圓盤表面，其中控制鏡面的反射角以獲得滿足公式(1)要求的凸起間距。