[發明專利]濾色器和液晶顯示器的制造方法無效
| 申請號: | 97117328.1 | 申請日: | 1997-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN1102745C | 公開(公告)日: | 2003-03-05 |
| 發明(設計)人: | 巖田研逸;吉村文孝;鈴木博幸;小佐野永人;坂本淳一 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 王以平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濾色器 液晶顯示器 制造 方法 | ||
1.一種制造濾色器的方法,包括以下步驟:
在透明基底上用樹脂形成黑色矩陣圖形;
在黑色矩陣的表面上和在與黑色矩陣圖形空間對應區域處的基底的表面上進行表面狀態改良處理以增加與黑色矩陣圖形空間對應區域處的基底表面的表面能;以及
對與黑色矩陣空間對應的基底部分施加油墨,
其中表面狀態改良處理為清洗處理、UV-臭氧處理、電暈放電處理或刻蝕處理。
2.權利要求1所述的方法,其中形成黑色矩陣圖形的步驟是對黑色光敏樹脂成分進行曝光和圖形刻蝕。
3.權利要求1所述的方法,其中形成黑色矩陣圖形的步驟為用光刻膠對黑色非光敏樹脂成分進行圖形刻蝕。
4.權利要求1所述的方法,其中所述UV-臭氧處理選自(a)UV-臭氧處理、(b)進行UV-臭氧處理后再進行熱處理以及(c)進行UV-臭氧處理、熱處理和清洗處理。
5.權利要求1所述的方法,其中所述電暈放電處理選自(a)電暈放電處理,(b)進行電暈放電處理后再進行熱處理以及(c)進行電暈放電處理、熱處理和清洗處理。
6.權利要求1所述的方法,其中,刻蝕基底表面0.05-0.15微米。
7.權利要求1所述的方法,其中進行表面狀態改良處理的方式為使黑色矩陣和對應于黑色矩陣分割空間的基底表面與水的接觸角的差別至少達到15°。
8.權利要求1所述的方法,其中進行表面狀態改良處理的方式為使黑色矩陣和對應于被黑色矩陣分割的空間的基底表面與水的接觸角的差別至少達到40°。
9.權利要求1所述的方法,其中用噴墨打印系統施加油墨。
10.權利要求1所述的方法,其中油墨是熱固性的。
11.一種制造液晶顯示器的方法,包括以下步驟:
通過用樹脂在透明基底上形成黑色矩陣圖形、在黑色矩陣的表面上和在與黑色矩陣圖形空間對應區域處的基底的表面上進行表面狀態改良處理以增加與黑色矩陣圖形的空間對應區域的基底表面的表面能以及對與黑色矩陣圖形的空間對應的基底部分施加油墨的步驟來形成濾色器襯底;
與濾色器襯底對置地配置具有象素電極的對置基底;以及
在濾色器襯底和對置基底之間的空間內封住液晶成分,
其中表面狀態改良處理為清洗處理、UV-臭氧處理、電暈放電處理或刻蝕處理。
12.權利要求11所述的方法,其中形成黑色矩陣圖形的步驟是對黑色光敏樹脂成分進行曝光和圖形刻蝕。
13.權利要求11所述的方法,其中形成黑色矩陣圖形的步驟為用光刻膠對黑色非光敏樹脂成分進行圖形刻蝕。
14.權利要求11所述的方法,其中所述UV-臭氧處理選自(a)UV-臭氧處理,(b)進行UV-臭氧處理后再進行熱處理以及(c)進行UV-臭氧處理、熱處理和清洗處理。
15.權利要求11所述的方法,其中所述電暈放電處理選自(a)電暈放電處理,(b)進行電暈放電處理后再進行熱處理以及(c)進行電暈放電處理、熱處理和清洗處理。
16.權利要求11所述的方法,其中,刻蝕基底表面0.05-0.15微米。
17.權利要求11所述的方法,其中進行表面狀態改良處理的方式為使黑色矩陣和對應于黑色矩陣分割空間的基底表面與水的接觸角的差別至少達到15°。
18.權利要求11所述的方法,其中進行表面狀態改良處理的方式為使黑色矩陣和對應于黑色矩陣分割空間的基底表面與水的接觸角的差別至少達到40°。
19.權利要求11所述的方法,其中用噴墨打印系統施加油墨。
20.權利要求11所述的方法,其中油墨是熱固性的。
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