[發明專利]等離子體源無效
| 申請號: | 97110548.0 | 申請日: | 1997-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN1169094A | 公開(公告)日: | 1997-12-31 |
| 發明(設計)人: | 河利孝 | 申請(專利權)人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | H05H1/46 | 分類號: | H05H1/46;H01L21/302 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 王以平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 | ||
1、一種等離子體源,它包括:
一個安置加工目標的加工室;
用于從該加工室外面在該加工室中產生一感生電場來產生等離子體的等離子體發生器;
用于在由該等離子體發生器產生的等離子體中產生一個方向水平于加工目標表面的電場的水平電場發生器;
用于控制由該水平電場發生器產生的水平電場的控制器,以控制等離子體中等離子體組成粒子的速度和運動方向。
2、根據權利要求1所述的等離子體源,其特征在于,所說的等離子體發生器包括放電器和高頻電源,放電器置于加工室外面,用于加工室中的感應放電,以產生感生電場,高頻電源用于給該放電器供應高頻電能。
3、根據權利要求1所述的等離子體源,其特征在于,所說的等離子體發生器包括置于加工室外面的微波發生器和波導,波導用于將該微波發生器所產生的微波導入加工室,以便在加工室中產生感應電場。
4、根據權利要求1所述的等離子體源,其特征在于,所說的水平電場發生器產生一個方向水平于加工目標表面的磁場;而且改變該磁場以產生一個方向水平于加工目標表面的電場。
5、根據權利要求4所述的等離子體源,其特征在于,所說的水平電場發生器產生一個方向水平于加工目標表面的磁場,并且使該磁場旋轉,以產生一個基于該旋轉磁場的旋轉電場,從而產生一個方向水平于加工目標表面的電場。
6、根據權利要求5所述的等離子體源,其特征在于,所說的水平電場發生器包括一個多相交流電源和多個多相交流磁鐵,多相交流磁鐵沿加工室的圓形殼體外放置,由該多相交流電源供電,以產生一個在圍繞置于加工室內的加工目標表面的垂直軸線的水平方向旋轉的旋轉磁場。
7、根據權利要求4所述的等離子體源,其特征在于,水平電場產生器產生一個方向水平于加工目標表面的磁場,而且周期地使該磁場的方向反向,以產生一個方向水平于加工目標表面的電場。
8、根據權利要求1所述的等離子體源,其特征在于,所說的水平電場發生器包括多個電極和一個高頻電源,多個電極以預定的間隔沿加工室的圓形殼體外放置,高頻電源給每個電極提供頻率不變但電極之間相位改變的高頻電能,從而在加工室中產生旋轉電場。
9、根據權利要求4所述的等離子體源,其特征在于,所說的控制器控制由所說的水平電場發生器產生的、方向水平于加工目標表面的磁場的時間變化率,從而控制疊加上垂直電場而成的復合電場的強度和方向,即控制等離子體中的等離子體組成粒子的速度和移動方向。
10、根據權利要求9所述的等離子體源,其特征在于,所說的控制器控制由水平電場發生器產生的、方向沿加工目標表面的旋轉磁場的旋轉頻率。
11、根據權利要求9所述的等離子體源,其特征在于,所說的控制器控制由水平電場發生器產生的、方向水平于加工目標表面的磁場的反向頻率。
12、根據權利要求8所述的等離子體源,其特征在于,控制器控制由水平電場發生器產生的、方向水平于加工目標表面的旋轉場的旋轉頻率,由此控制疊加上垂直電場而成的復合電場的強度的方向,從而控制等離子體中的等離子體組成粒子的速度和移動方向。
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