[發(fā)明專利]化學(xué)腐蝕槽

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 97104711.1
• 申請(qǐng)日: 1997-02-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN1167337A
• 公開(kāi)（公告）日: 1997-12-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姜正鎬;李光烈;孟東祚;黃宗燮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星電子株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/3063
• 分類號(hào): H01L21/3063
• 代理公司: 柳沈知識(shí)產(chǎn)權(quán)律師事務(wù)所
• 代理人: 楊梧

1.一種化學(xué)腐蝕槽，具有內(nèi)腐蝕槽，通過(guò)供給管向其供給化學(xué)物質(zhì)，并具有外腐蝕槽，通過(guò)排放管排放從內(nèi)腐蝕槽引入的化學(xué)物質(zhì)，

所述內(nèi)腐蝕槽包括與其各側(cè)壁上端相距一定距離的多個(gè)孔，以致內(nèi)腐蝕槽中的化學(xué)物質(zhì)流過(guò)內(nèi)腐蝕槽各側(cè)壁上端時(shí)，同時(shí)流過(guò)各孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)腐蝕槽，其中在內(nèi)腐蝕槽的各相對(duì)兩側(cè)壁按相同方式形成各孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化學(xué)腐蝕槽，其中在內(nèi)腐蝕槽上端與應(yīng)浸入內(nèi)腐蝕槽中的化學(xué)物質(zhì)的晶片的上部之間的各個(gè)點(diǎn)形成各孔。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)腐蝕槽，其中在距內(nèi)腐蝕槽上端2cm之內(nèi)的各個(gè)點(diǎn)形成各孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化學(xué)腐蝕槽，其中在距內(nèi)腐蝕槽上端1cm的各個(gè)點(diǎn)形成各孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)腐蝕槽，其中各孔直徑為3-5mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的化學(xué)腐蝕槽，其中各孔直徑為4mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)腐蝕槽，其中各孔為圓形。