[發明專利]具有單軸張力聚焦蔭罩的彩色陰極射線管及蔭罩制造方法

無效

• 申請號: 96195825.1
• 申請日: 1996-07-12
• 公開（公告）號: CN1085401C
• 公開（公告）日: 2002-05-22
• 發明（設計）人: 理查德·W·諾斯克;喬伊·J·米哈爾切克;丹尼斯·L·馬塞厄斯
• 申請（專利權）人: 湯姆森多媒體公司
• 主分類號: H01J29/07
• 分類號: H01J29/07;H01J29/81
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 呂曉章

本發明涉及一種彩色陰極射線管(CRT)，尤其是涉及具有單軸張力聚焦蔭罩(focus?mask(或稱聚焦柵孔板))的彩色CRT和制造這種蔭罩的方法。

傳統的蔭罩型彩色CRT通常包括一個抽空的管殼，管殼中具有：一個熒光屏，它帶有三種發射不同顏色的光的熒光粉單元，熒光粉是按色組方式以循環次序排列的；用于產生三根朝向熒光屏會聚的電子束的裝置；和一個選色結構，例如蔭罩板，它位于熒光屏與電子束產生裝置之間。蔭罩板起到遮蔽熒光屏的視差障板的作用。入射的電子束的會聚角的差異允許這些電子束的透射部分激勵正確的發光顏色的熒光粉單元。蔭罩型CRT的一個缺點是，在熒光屏的中心處，蔭罩板截獲除約18-22％的束流外的全部束流；也就是說，蔭罩板被認為僅僅具有約18-22％的透射率。因此，孔在蔭罩板中的面積大約為蔭罩板面積的18-22％。由于不存在與蔭罩板相關的聚焦場，因此熒光屏的對應部分將被電子束激勵。

為了增大選色電極的透射率，同時不增大熒光屏的被激勵部分的尺寸，需要偏轉后聚焦的選色結構。這種結構的聚焦特性允許采用較大的孔口徑，以獲得比采用常規的蔭罩可以得到的透射率更大的電子束透射率。1964年11月6日出版的由SONY申請的日本專利公開昭39-24981中曾描述了這樣一種結構。在這種獲得專利的結構中，相互正交的引線在其交叉點處通過絕緣體固定，以提供大的窗孔供電子束通過。這種結構的一個缺點是，交叉引線幾乎沒有為絕緣體提供屏蔽，于是偏轉的電子束將撞擊絕緣體并對其靜電充電。靜電充電的絕緣體將使通過窗孔的電子束的路徑畸變，使得電子束與熒光屏單元對準不良。這種結構的另一個缺點是，絕緣體的機械破裂會引起交叉的柵線之間的電短路。另一種選色電極聚焦結構克服了上述的日本專利公開(的結構)中存在的某些缺點，這另一種結構描述于1984年4月17日授予Lipp的美國專利4443499中。在美國專利4443499中描述的結構采用了一個蔭罩板作為第一電極，此蔭罩板具有約0.15mm(6密耳)的厚度，并帶有多個貫穿的矩形孔。多個金屬條將多列孔分隔開。金屬條的頂面設有合適的絕緣涂層。一個金屬涂層覆蓋此絕緣涂層而形成第二電極，當合適的電位施加至蔭罩板和金屬涂層時，此第二電極提供所需的電子束聚焦。或者正如1987年3月17日授予Tamutus的美國專利4650435中所描述的，一個構成第一電極的金屬蔭罩板被從一個表面蝕刻而形成多個平行的溝槽，絕緣材料淀積在溝槽中而形成絕緣條。蔭罩板通過一系列曝光、顯影和蝕刻步驟被進一步處理，從而在位于支撐板上的絕緣材料的條之間形成多個孔。絕緣條的頂面的金屬化(涂層)構成第二電極。上述的這兩個美國專利消除了隔離的導體之間的電短路問題，而這種電短路是在先的日本(專利描述的)結構中的一個缺點；然而，美國專利的多孔蔭罩板的每一交叉部件具有大得多的尺寸，這會降低電子束透射率。另外，蔭罩板的厚度使得出現這樣的結果：偏轉的電子將仍然會撞擊絕緣材料的條并對其靜電充電。因此，需要一種聚焦蔭罩結構，它能夠克服現有的結構的這些缺點。

本發明目的是提供一種彩色陰極射線管，它具有一個抽空的管殼，管殼內具有一個用于產生至少一根電子束的電子槍。管殼還包括一個熒光屏面板，面板內表面上具有一個帶熒光粉條的熒光屏。一個單軸張力聚焦蔭罩靠近熒光屏的有效圖象區域設置，蔭罩具有多個分離的第一金屬條。第一金屬條之間的間隔形成了多個槽孔，這些槽孔實質上平行于熒光屏的熒光粉條。跨越熒光屏的有效圖象區域，每個第一金屬條在其面向熒光屏一側具有實質上連續的第一絕緣層。一個第二絕緣層覆蓋第一絕緣層。多個第二金屬條實質上垂直于第一金屬條取向，并且通過第二絕緣層粘結至第一金屬條。

現在將參照附圖對本發明進行更詳細的描述，附圖中：

圖1(第一頁)是體現本發明的彩色CRT的平面圖，其中部分是軸向剖視圖；

圖2(第二頁)是用于圖1的CRT中的單軸張力聚焦蔭罩-框架組件的平面圖；

圖3(第二頁)是沿圖2中的線3-3獲取的蔭罩-框架組件的前視圖；

圖4(第三頁)是圖2中的環4內所示的單軸張力聚焦蔭罩的放大視圖；

圖5(第三頁)是沿圖4中的線5-5獲取的單軸張力聚焦蔭罩和熒光屏的剖視圖；

圖6(第二頁)是圖5中的環6內的單軸張力聚焦蔭罩的一部分的放大示意圖；

圖7(第三頁)是圖5中的環7內的單軸張力聚焦蔭罩的另一部分的放大示意圖。