[發明專利]用于使涂層均勻漸變的凹版輥及方法

無效

• 申請號: 95192291.2
• 申請日: 1995-03-03
• 公開（公告）號: CN1070108C
• 公開（公告）日: 2001-08-29
• 發明（設計）人: T·R·弗愛德斯;A·E·博爾;K·R·邁克依;L·C·弗斯恩
• 申請（專利權）人: 雷克斯姆工業公司
• 主分類號: B41F13/11
• 分類號: B41F13/11
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 徐汝巽

1．一種包括一系列網穴的凹版輥，其中網穴排列在至少兩個線密度區域內，線密度區域中，從一個區域到另一個區域，線密度變化，在每個區域內，網穴的體積逐漸變化，而且一個區域最后部分的網穴體積與相鄰區域開始部分的網穴體積實際相同。

2．一種如權利要求1所述的凹版輥，其特征在于，從一個區域到另一個區域，線密度逐漸增加，同時，在每個區域中，網穴體積逐漸減小，一個區域最后部分的網穴體積與相鄰區域開始部分的網穴體積實際相同。

3．一種如權利要求1所述的凹版輥，其特征在于，每個上述區域中的網穴體積總保持足夠大，以在一個由上述凹版輥涂布的片基上形成一個連續的涂層。

4．一種如權利要求1所述的凹版輥，其特征在于，網穴間的通道保持足夠大，在一個由上述凹版輥涂布的片基上形成一個連續的涂層。

5．一種如權利要求1所述的凹版輥，其特征在于，上述線密度區域是沿上述凹版輥的軸向排列的圓周區域。

6．一種如權利要求1所述的凹版輥凹版印刷成的片基。

7．一種在片基上產生均勻漸變的涂層的方法，該方法包括：

通過向片基釋放液體，從包含液體的網穴的第一區域向片基的第一部分施加一個液體涂層，其中網穴帶有恒定的線密度但網穴體積逐漸減小；而且

從包含液體的網穴的第二區域向片基的第二部分施加一個液體涂層，其中網穴第二區域的線密度恒定并大于第一區域的線密度，但網穴體積逐漸減小，片基的第二部分與由第一區域中體積最小的網穴涂布的部分相鄰；而且同時

在片基的第一和第二部分彼此相鄰的地方，第一區域中網穴的體積實際上與第二區域的網穴體積保持相等。

8．一種如權利要求7所述的方法制成的涂布后的片基。

9．一種如權利要求7所述的涂布方法，其特征在于，從網穴的第一和第二區域涂布上述液體的步驟包括從凹版輥上網穴的相鄰圓周區域涂布液體。

10．一種如權利要求7所述的方法，其特征在于，向片基的第一和第二部分并行地施加上述液體涂層。

11．一種如權利要求7所述的方法，其特征在于，向片基的第一和第二部分連續地施加上述液體涂層。

12．一種如權利要求7所述的涂布方法，其特征在于，從網穴的第一和第二區域涂布上述液體的步驟包括向透明片基涂布一種著色的液體。

13．一種如權利要求7所述的涂布方法，其特征在于，向片基施加上述液體涂層的步驟包括向一個活動中的卷筒施加液體涂層。

14．一種如權利要求7所述的涂布方法，其特征在于，向片基的第一和第二部分施加液體涂層的步驟包括從網穴的每個區域施加足夠的液體，以在一個由上述凹版輥涂布而成的片基上形成連續的涂層。

15．一種能在片基上生成連續漸變涂層的凹版輥的制作方法，該方法包括：

在凹版輥的圓周面以一定的線密度形成網穴的第一區域，與此同時沿凹版輥的軸向并行地逐漸減小網穴的體積；

在凹版輥的圓周面上毗鄰第一區域，以一個恒定的大于第一區域的線密度形成第二區域，同時使第二區域起始部分的網穴的體積與第一區域最后部分的網穴體積實際相匹配，并且在第二區域中沿凹版輥的軸向并行地逐漸減小網穴的體積。

16．一種如權利要求15所述的方法，其特征在于，形成網穴的步驟包括一種雕刻技術，該技術選自下組中的一種：

電子雕刻，機械雕刻，化學腐蝕和激光雕刻。