[發明專利]多記錄層光盤無效
| 申請號: | 95119902.1 | 申請日: | 1995-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN1151071A | 公開(公告)日: | 1997-06-04 |
| 發明(設計)人: | 崔良吾 | 申請(專利權)人: | 大宇電子株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/24 | 分類號: | G11B7/24 |
| 代理公司: | 柳沈知識產權律師事務所 | 代理人: | 李曉舒 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 記錄 光盤 | ||
1、一種具有多個記錄層的光盤,其中由一光學頭裝置照射的一具有預定波長的激光束來執行在/從該盤記錄/再現信息,包括:
當所述激光束投射到所述盤上時,按其從上部開始的順序;
一保護層;
一第一記錄層,具有所要求的式樣,在所述保護層之下形成;
一涂層,所述激光束被該涂層以一預定反射率部分反射,而另一部分透射通過;
一介電層;
一第二記錄層,具有所要求的式樣,在所述介電層之下形成;以及
一反射層,所述激光束被該反射層全反射,
借此根據反射到所述光學頭裝置的激光束光量差進行多個記錄層的記錄/再現。
2、如權利要求1所述的具有多個記錄層的光盤,重復包括:
當所述激光束投射到所述盤上時,按其從上部開始的順序,
在所述第二記錄層和所述反射層之間,
一涂層,所述激光束以一預定反射率被該涂層部分反射,激光束另一部分透射;
一介電層;以及
一記錄層,具有所要求的式樣,在所述介電層之下形成。
3、一種具有多個記錄層的光盤,其中在/從該盤記錄/再現信息是由從一光學頭裝置照射的具有不同波長的第一和第二激光束執行的,包括:
當所述第一或第二激光束投射到所述盤上時,按其從上部開始的順序,
一保護層;
一第一記錄層,具有所要求的式樣,在所述保護層之下形成;
一第一涂層,所述第一激光束的一部分被該涂層以一預定反射率反射,另一部分透射通過,而所述第二激光束全部透射通過;
一第一介電層;
一第二記錄層,具有所要求的式樣,在所述第一介電層之下形成;
一第二涂層,所說第二激光束的一部分被該涂層以一預定反射率反射,另一部分透射通過,而所述第一激光束完全透射通過;
一第二介電層;
一第三記錄層,具有所要求的式樣,在所述第二介電層之下形成;
一第一反射層,所述第一激光束被該反射層全反射,而所述第二激光束全部透射通過;
一第三介電層;
一第四記錄層,具有所要求的式樣,在所述第三介電層之下形成;以及????
一第二反射層,所述第二激光束被該反射層全反射,
借此根據反射到所述光學頭裝置的光量差進行多個記錄層的記錄/再現。
4、如權利要求3所述的具有多個記錄層的光盤,重復包括:
當所述第一或第二激光束投射到所說盤上時,按其從上部開始的順序;
在所述第三記錄層和所述第一反射層之間;
一涂層,所述第一激光束的一部分被該涂層以一預定反射率反射,另一部分透射通過,而所述第二激光束全部透射通過;
一介電層;
一記錄層,具有所要求的式樣;
另一涂層,所述第二激光束的一部分被該涂層以一預定反射率反射,另一部分透射通過,而所述第一激光束全部透射通過;
另一介電層;以及
另一記錄層,具有所要求的式樣。
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