[發(fā)明專利]照相沖印設(shè)備中的負(fù)片屏模系統(tǒng)

無效

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• 申請日: 1994-06-03
• 公開（公告）號: CN1043593C
• 公開（公告）日: 1999-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 岡紀(jì)行;池原宏明
• 申請（專利權(quán)）人: 諾日士鋼機株式會社
• 主分類號: G03B27/62
• 分類號: G03B27/62;G03D13/08
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 王彥斌

1．用于照相洗印設(shè)備中的一種負(fù)片屏模系統(tǒng)，包括：一負(fù)片屏模組件(12)，其具有一屏模(14)，一負(fù)片下壓機構(gòu)(13,15)以及一個屏模安裝件(2)，負(fù)片屏模組件(12)裝于其上，其中，相片是從裝置于此負(fù)片屏模組件中的負(fù)片產(chǎn)生出來的，其具有任意組合的標(biāo)準(zhǔn)尺寸畫幅(F1)與全景尺寸畫幅(F2)，這里的全景尺寸畫幅是指在拍攝過程中屏蔽住此負(fù)片的兩條寬向邊以造成標(biāo)準(zhǔn)畫幅中兩個未曝光區(qū)，其特征在于，上述負(fù)片屏模系統(tǒng)還包括：

一個第一四邊形片門孔(14a)，位于屏模(14)中，其尺寸及形狀等同于全景尺寸畫幅；

一個第二四邊形片門孔(15a)，位于負(fù)片下壓機構(gòu)(15)中，其尺寸及形狀等同于第一四邊形片門孔；

第一探測孔(14b)，位于上述屏模的特定位置中，其偏出四邊形片門孔，并且至少部分地位于已經(jīng)裝到負(fù)片屏模組件中的一負(fù)片的標(biāo)準(zhǔn)尺寸畫幅區(qū)域；第二探測孔(15b)，位于上述負(fù)片下壓件中，光學(xué)地連通于前述屏模的探測孔(14b)。

2．根據(jù)權(quán)利要求1的負(fù)片屏模系統(tǒng)，其特征在于，所述探測孔被安排得可允許看到標(biāo)準(zhǔn)尺寸畫幅(F1)以及畫面的未曝光區(qū)(F11)。

3．根據(jù)權(quán)利要求1或2的負(fù)片屏模系統(tǒng)，其特征在于，所述第一探測孔的位置至少部分地處于位于上述四邊形片門孔中的一標(biāo)準(zhǔn)尺寸畫幅區(qū)域內(nèi)。

4．根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項的負(fù)片屏模系統(tǒng)，其特征在于，連接上述第一、第二探測孔(14b、15b)的相應(yīng)孔的光路軸線相對于負(fù)片屏模組件(2)中的一負(fù)片所限定的平面以預(yù)定的角度延伸。

5．根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項的負(fù)片屏模系統(tǒng)，其特征在于，連接上述第一、第二探測孔(14b,15b)的相應(yīng)孔的光路軸線相對于照相洗印設(shè)備操作者的眼睛以某一角度延伸。

6．根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項的負(fù)片屏模系統(tǒng)，其特征在于，上述第一、第二探測孔(14b、15b)中至少一個被減光濾光片覆蓋。

7．根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項的負(fù)片屏模系統(tǒng)，其特征在于，在上述第二探測孔(15b)中設(shè)有柵板，它們相對于照相洗印設(shè)備操作者的視線以相同的角度傾斜。