[發明專利]二氧化鋯殘渣制乳濁釉及制品無效
| 申請號: | 94103681.2 | 申請日: | 1994-04-05 |
| 公開(公告)號: | CN1096023A | 公開(公告)日: | 1994-12-07 |
| 發明(設計)人: | 張秀彩;鄭曼云;朱志斌;盧生;陳宇均 | 申請(專利權)人: | 國家建筑材料工業局山東工業陶瓷研究設計院 |
| 主分類號: | C04B41/86 | 分類號: | C04B41/86;C03C1/04;C03C8/14 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 255031 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧化鋯 殘渣 制乳濁釉 制品 | ||
1、本發明涉及用二氧化鋯殘渣作為乳濁劑,采用硼硅酸鹽制熔塊或配制成乳濁生料釉,施于陶瓷坯體表面及其它陶瓷制品,其特征在于采用了以生產氧化鋯的殘渣作熔塊和釉用原料,以達到理想的熔塊及釉料的化學組成范圍。
2、根據權利要求1所述釉面磚、彩釉磚等陶瓷制品用的二氧化鋯殘渣乳濁釉,其特征在于熔塊配方范圍為:二氧化鋯殘渣0-40%、長石15-40%、石英2-30%、硼砂0-20%、硼酸0-10%、氧化鋅0-8%、石灰石3-20%、硝酸鉀0-5%、硝酸鈉0-5%。釉料配方范圍為:殘渣乳濁熔塊0-90%、長石10-45%、石英5-20%、石灰石3-18%、高嶺土3-18%、氧化鋅0-8%、二氧化鋯殘渣0-28%。
3、根據權利要求1所述的釉面磚、彩釉磚等陶瓷制品用乳濁釉,其特征在于釉料的化學組成范圍為:SiO240-65% Al2O32-13% B2O35-10% ZrO22-14% K2O0-4% Na2O0-4% CaO2-12% ZnO0-8%。
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