[發明專利]二氫吡啶衍生物及其制備方法

無效

• 申請號: 93117098.2
• 申請日: 1993-07-28
• 公開（公告）號: CN1087630A
• 公開（公告）日: 1994-06-08
• 發明（設計）人: 伊藤清隆;赤松秀和;井上慶三;尾野村治;濱谷武;上田陽一郎;江角公男
• 申請（專利權）人: 藤澤藥品工業株式會社;大世呂化學工業株式會社
• 主分類號: C07D211/90
• 分類號: C07D211/90;A61K31/44
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 王景朝

1、下式二氫吡啶化合物及其酸加成鹽：

其特征為其中W或R¹之一代表鹵代(低級)烷基；W或R¹中的另一個代表低級烷基；R²代表低級烷基；R³代表氫原子或低級烷基；

Ar²代表任意取代的芳基；A代表環(低級)亞烷基，任意插入有一個或多個選自氧雜，亞氨基，取代亞氨基，雜環基，1，2-亞乙烯基，亞苯基，-O-亞苯基-基團，-亞苯基-O-，-O-亞苯基-O-(各基團中的亞苯基可以含有甲氧基取代基)的低級或高級亞烷基，以及下式基團：-Het-Q-(其中Het為二價雜環基團，Q為低級亞烷基)；B為直接連鍵或表示-CH₂O-；Ar¹代表吡啶基或具有下式結構的苯基：

其中X和Y可以相同或不同，各自代表氫原子，鹵原子，鹵代(低級)烷基；可含有氨基取代基的低級烷氧基，或硝基。

2、根據權利要求1所述的下式二氫吡啶化合物或其酸加成鹽：

其中W代表鹵代（低級）烷基;R¹代表低級烷基;R²代表低級烷基;X和Y可以相同或不同，各自代表氫原子，鹵原子，鹵代（低級）烷基或硝基;Ar代表任意取代的芳基;A代表環（低級）亞烷基，任意插入有氧雜，亞氨基，取代亞氨基或雜環基的低級或高級亞烷基，或下式基團：-Het-Q-（其中Het為二價雜環基團且Q為低級亞烷基）。

3、根據權利要求1或2所述的二氫吡啶化合物，其特征為其中各個鹵原子指氟，氯或溴。

4、根據權利要求1，2或3所述的二氫吡啶化合物，其特征在于其中所述酸加成鹽為鹽酸鹽或硫酸鹽。

5、根據權利要求1，2或3所述的二氫吡啶化合物，其特征在于其中所述酸加成鹽為草酸鹽，乳酸鹽，琥珀酸鹽，酒石酸鹽，馬來酸鹽，富馬酸鹽，乙酸鹽，水楊酸鹽，檸檬酸鹽，苯甲酸鹽，β-萘甲酸鹽，己二酸鹽，甲磺酸鹽，苯磺酸鹽或對-甲苯磺酸鹽。

6、一種制備權利要求1所述的二氫吡啶化合物的方法，其包括使下式胺：

其中W，R¹，R²，R³，A和Ar¹的定義同權利要求1所述，與下述相應結構的環氧化物或醇衍生物反應：

其中B和Ar²的定義同權利要求1所述，L代表一適宜離去基團（活性功能基）。

7、一種制備權利要求2所述二氫吡啶化合物的方法，其包括將下式胺：

其中W，R¹，R²，A，X和Y的定義同權利要求2，與下述相應結構的環氧化物或醇衍生物反應：

其中Ar的定義同權利要求2所述，L代表適宜的離去基團（活性功能基）。

8、一種制備權利要求1所述的二氫吡啶化合物的方法，其包括使下式二氫吡啶衍生物：

其中W，R¹，R²，A和Ar¹的定義同權利要求1所述，且Z代表適宜的離去基團（活性功能基），與下式化合物反應：

其中R³，B和Ar²的定義同權利要求1所述。

9、一種制備權利要求2所述二氫吡啶化合物的方法，其包括使下式二氫吡啶衍生物：

其中W，R¹，R²，A，X和Y的定義同權利要求2所述，且Z代表適宜的離去基團（活性功能基），與下式化合物反應：

其中Ar的定義同權利要求2中所述。