[發明專利]制作單層或多層電路圖形的方法無效
| 申請號: | 92112076.1 | 申請日: | 1992-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN1032614C | 公開(公告)日: | 1996-08-21 |
| 發明(設計)人: | J·J·費爾滕;S·H·馬 | 申請(專利權)人: | 納幕爾杜邦公司 |
| 主分類號: | H01L27/01 | 分類號: | H01L27/01;H01L49/02;H05K3/10;H05K3/12 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吳大建 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制作 單層 多層 電路 圖形 方法 | ||
1、制作單層或多層電路圖形的方法,其中所括下列順序步驟:
A、在一基片上涂布一個無圖形的第一層,包含酸值為20-600的固體酸性有機聚合物在第一種增塑劑中的固體分散體;
B、在該無圖形的第一層上涂布一個有圖形的第二層,包含有機堿和揮發性溶劑的溶液;
C、加熱有圖形的第二層使揮發性溶劑從該層中除去并使有機堿擴散進入位于下部的第一層區域,從而使位于下部的第一層區域中的酸性聚合物通過與該有機堿的反應而變成增溶狀態;
D、用PH為5-8.5的水溶液洗滌這些層以除去這些層的有圖形的區域中的增塑劑和增溶的酸性聚合物。
2、按權利要求1的方法,其特征是酸性有機聚合物在第一種增塑劑中具有有限的溶解度,聚合物與增塑劑的重量比是這樣的,以使無圖形層為非鏡面反射的。
3、按權利要求1的方法,其特征是無圖形的第一層含有微細介電固體。
4、按權利要求1的方法,其特征是該圖形層是厚膜漿料。
5、按權利要求3的方法,其特征是無圖形層是以厚膜漿料的形式涂布的。
6、按權利要求1的方法,其特征是有圖形的第二層是用墨料印刷涂布的。
7、按權利要求4的方法,其特征是有圖形的第二層是用絲網印刷涂布的。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





