[發(fā)明專利]金屬照片及其制做方法無(wú)效
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 91103630.X | 申請(qǐng)日: | 1991-06-07 |
公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1067748A | 公開(kāi)(公告)日: | 1993-01-06 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 王濤 |
主分類號(hào): | G03F1/00 | 分類號(hào): | G03F1/00;G03F1/14 |
代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
地址: | 100021 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 金屬 照片 及其 制做 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種照片及其制做方法,尤其是由基層、金屬層、圖相層、保護(hù)層構(gòu)成的照片。該照片是通過(guò)下料、照相制底片、翻片加網(wǎng)、制網(wǎng)、絲印、電鍍、涂保護(hù)層等工藝制成的。
目前照相館所制做的普通照片(黑白、彩色),均存在著怕水、怕折、怕腐蝕、退色、不易長(zhǎng)久保存的問(wèn)題。
○本發(fā)明的任務(wù)是提供一種照片及其制作方法。它能耐水、耐腐蝕、不褪色、堅(jiān)固、易于永久保存。
為完成上述任務(wù),本發(fā)明采用的解決方案是在基層上附上一層金屬層,在金屬層上再附上一層圖相層,在圖相層上涂上一層保護(hù)層從而制成金屬照片?;鶎涌蛇x用金屬材料或非金屬材料,但基層要求有一定強(qiáng)度,當(dāng)基層選用金屬時(shí),一般可直接附圖相層而不須再附金屬層。該照片的金屬層選用銅箔等金屬箔。圖相層可選用非金屬材料如油墨、樹(shù)脂等,也可由非金屬材料與金屬電鍍層共同構(gòu)成圖相層。保護(hù)層可選用清漆,或耐磨透明涂料等。
具體金屬照片制做可選用以下幾個(gè)工藝流程方案。
○方案1:見(jiàn)附圖(2);
方案3:將方案1中電鍍工藝去掉換成清洗即成方案3;
方案4:將方案2中電鍍工藝去掉換成清洗即成方案4;
a、下料:將金屬基層或基層與金屬層構(gòu)志的板材剪成要求尺寸;
b、照相制底片:用照相機(jī)通過(guò)普通的照相方法將所照對(duì)象的圖像制成照相底片;
c、翻片加網(wǎng)分色:可直接在上述底片另網(wǎng)屏分色制成分色片也可翻陽(yáng)片后再加網(wǎng)屏分色的成分色片。
d、制網(wǎng):用上述分色陽(yáng)片加附在涂有感光膠或菲林膜的絲網(wǎng)上曝光,然后取下底片將曝光后的絲網(wǎng)通過(guò)顯影等方法制所圖形絲網(wǎng);
e、絲?。簩⒕哂心碗婂冃阅艿挠湍蚱渌×贤ㄟ^(guò)圖形絲網(wǎng)印到上述下料后板材的金屬層上并且固化。
f、電鍍:將上述印有油墨的板材進(jìn)行電鍍根據(jù)需要可鍍金、銀、銅等金屬;
g、涂保護(hù)層:在上述電鍍層上均勻地涂上一層透明的保護(hù)層可選用清漆,透明耐磨涂料等;
h、涂感光層:通過(guò)絲印或其它方法將感光涂料或感光膜貼在上述下料后板材的金屬表面;
i、感光顯影:將上述涂有感光層的板材感光顯影,做成圖像且固化。
如果采用銅版畫(huà)等繪畫(huà)底片采用上述工藝也可生產(chǎn)金屬板畫(huà)。
如果在加網(wǎng)分色時(shí)選用不同的網(wǎng)屏可達(dá)到多種不同的藝術(shù)效果如加喜字網(wǎng)屏可使照片增加喜氣的藝術(shù)效果。
由于上述解決方案中采用加網(wǎng)分色等方法及選用了金屬材料制成金屬照片,使該金屬照片不僅具有耐腐蝕、耐水、不褪色、有利于長(zhǎng)久保存等特點(diǎn),而且可以使照片產(chǎn)生高雅、明亮、古樸、喜慶等多種藝術(shù)效果。
附圖1為金屬照片局部縱剖面圖。
其中1為基層,2為金屬層,3為圖相層,4為保護(hù)層
實(shí)施例1:
選用上述工藝流程方案1;其中a下料選用1mm銅板,b用普通135照相機(jī)制出135底片,c翻片加80目網(wǎng)屏用普通分色機(jī)分色,d用市售感光膠制網(wǎng)選用260目絲網(wǎng),e選用市售耐電鍍油墨絲印,f電鍍銅采用普通光亮鍍銅配方(電鍍手冊(cè)),g涂硝基清漆。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門(mén)適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備