[發明專利]用作電解質電容器中電極的鋁箔的制造方法無效
| 申請號： | 91101672.4 | 申請日： | 1991-03-16 |
| 公開（公告）號： | CN1064963A | 公開（公告）日： | 1992-09-30 |
| 發明（設計）人： | 藤平忠雄;加藤豐;多田清志;礒山永三;田村喬;御所名健司 | 申請（專利權）人： | 昭和鋁株式會社 |
| 主分類號： | H01G9/04 | 分類號： | H01G9/04 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 楊麗琴 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用作 電解質 電容器 電極 鋁箔 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1、用作電解質電容器中電極材料的鋁箔的制造方法，該方法包括以下步驟：
清理鋁箔的表面部分，然后對其進行電化學或化學腐蝕處理；
在表面部分已經清理的鋁箔表面上形成厚度為5-50的初始或內氧化物涂層，以及
對鋁箔進行高溫熱處理以便在內氧化物涂層的表面上形成外氧化物涂層，其中，氧化物涂層的總厚度控制在不超過70。
2、權利要求1所述的方法，其中，清除的表面部分的厚度為5或更多。
3、權利要求2所述的方法，其中，清除的表面部分的厚度是20或更多。
4、權利要求1所述的方法，其中，內氧化物涂層厚度為10-45。
5、權利要求1所述的方法，其中，氧化物涂層的總厚度是50或更少。
6、權利要求1所述的方法，其中，當晶粒或亞晶粒的平均粒徑一直是10μm或更少時形成初始的內氧化物涂層。
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