[發(fā)明專(zhuān)利]測(cè)量實(shí)體截面圖的超聲系統(tǒng)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 90107464.0 | 申請(qǐng)日: | 1990-09-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1024945C | 公開(kāi)(公告)日: | 1994-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邁克爾·約瑟夫·米塔拉;李·韋恩·伯特內(nèi)爾;邁克爾·弗朗西斯·費(fèi)爾 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 西屋電氣公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01B15/04 | 分類(lèi)號(hào): | G01B15/04;G01N29/04 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 馮賡宣 |
| 地址: | 美國(guó)賓夕*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 測(cè)量 實(shí)體 截面圖 超聲 系統(tǒng) | ||
1、一套用于測(cè)定具有兩個(gè)相對(duì)表面的物體橫斷面圖的系統(tǒng)包括:
具有一個(gè)參考表面的超聲波傳感器,用于發(fā)射和接收通過(guò)上述參考面的超聲波能量;
厚度檢測(cè)裝置,它與上述傳感器相連,可使該傳感器通過(guò)上述參考面發(fā)射超聲波能量,并檢測(cè)被該傳感器接收的、通過(guò)該參考面的反射超聲波能量,由此可以得到參考面與面對(duì)該參考面的超聲波能量反射面之間的距離;
一個(gè)支撐上述傳感器的支架;
導(dǎo)向裝置,它決定了一條具有一個(gè)參考點(diǎn)的直線運(yùn)動(dòng)軌跡,并支撐上述支架沿這條運(yùn)動(dòng)軌跡運(yùn)動(dòng);
位置測(cè)定裝置,它可操作地與上述的支架相關(guān)聯(lián),以獲得該支架沿上述運(yùn)動(dòng)軌跡相對(duì)于上述參考點(diǎn)的位置;
用來(lái)將導(dǎo)向裝置固定在物體上的裝置,它將使直線運(yùn)動(dòng)軌跡沿著兩相對(duì)平面之一延伸;
信號(hào)處理裝置,它與上述位置測(cè)定裝置及上述的厚度測(cè)量裝置相連接,當(dāng)上述參考面與物體的兩相對(duì)面之一接觸時(shí),與上述支架相對(duì)于上述參考點(diǎn)的位置相關(guān),可產(chǎn)生兩相對(duì)面之間的距離指示;
一個(gè)校準(zhǔn)塊,當(dāng)所述導(dǎo)向裝置固定于物體上時(shí),它由所述固定裝置在鄰近物體的一個(gè)位置承載,所述校準(zhǔn)塊沿所述運(yùn)動(dòng)軌跡布置,以便與所述超聲波傳感器相配合,校準(zhǔn)所述厚度測(cè)量裝置。
2、由權(quán)利要求1所限定的一套系統(tǒng),其中上述信號(hào)處理裝置包括圖形顯示裝置,用來(lái)顯示出平行于運(yùn)動(dòng)軌跡的、物體兩相對(duì)面間的斷面。
3、由權(quán)利要求1所限定的一套系統(tǒng),其中上述位置測(cè)定裝置包括:一個(gè)用于發(fā)射和接收電磁能量的電磁波傳感器;電磁波傳播裝置,它與上述電磁波傳感器相連,用于使電磁波沿直線運(yùn)動(dòng)軌跡傳播;還有能量反射裝置,安裝在前述的支架上,并可操作地與上述電磁波傳播裝置相連系,用來(lái)將上述電磁波傳感器發(fā)射出的能量反射回該波傳感器,利用這一點(diǎn),可知波能量從上述波傳感器至該反射裝置的傳播時(shí)間是與上述的支架到參考點(diǎn)之間的距離成正比的。
4、由權(quán)利要求3所限定的一套系統(tǒng),其中上述波傳播裝置包括一個(gè)波導(dǎo)管,而上述的能量反射裝置可以產(chǎn)生一個(gè)磁場(chǎng),該磁場(chǎng)對(duì)于在這個(gè)波導(dǎo)管中傳播的能量具有反射作用。
5、由權(quán)利要求1所限定的這套系統(tǒng)進(jìn)而還包括定位裝置,它連接在前述的支架和超聲波傳感器之間,當(dāng)前述的導(dǎo)向裝置固定在物體上時(shí),定位裝置使上述的參考面保持與物體的一個(gè)表面相平行。
6、根據(jù)權(quán)利要求5所限定的一套系統(tǒng),其中,所述的導(dǎo)向裝置支撐著支架,并在一定程序上允許該支架繞第一軸線旋轉(zhuǎn),該軸是沿上述的直線運(yùn)動(dòng)軌跡方向延伸的;而所述的定位裝置具有一個(gè)允許上述超聲波傳感器繞第二軸線和第三軸線旋轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu),第二軸線與第一軸線是平行的,而第三軸線是橫截第二軸線的。
7、一種使用權(quán)利要求1所限定的系統(tǒng)來(lái)測(cè)定具有兩相對(duì)表面物體的截面圖的方法包括:
將所述的固定裝置連接到物體上,以使直線運(yùn)動(dòng)軌跡沿平行物體兩相對(duì)面之一的方向延伸;
在操作所述的厚度測(cè)量裝置及位置測(cè)定裝置的同時(shí),沿上述的運(yùn)動(dòng)軌跡移動(dòng)支架,并保持參考面與兩相對(duì)面之一接觸;
操作上述信號(hào)處理裝置,以沿著上述運(yùn)動(dòng)軌跡得到兩相對(duì)平面間的距離。
8、權(quán)利要求7所限定的方法中,其中移動(dòng)的步驟是手動(dòng)執(zhí)行的。
9、權(quán)利要求8中所限定的方法中提到的移動(dòng)步驟包括:每當(dāng)厚度測(cè)量裝置顯示出兩個(gè)相對(duì)面間的距離有變化時(shí),都要停止移動(dòng)支架,并且在厚度變化位置處的每一側(cè)測(cè)出兩相對(duì)面間的距離。
10、一種根據(jù)權(quán)利要求7的方法,其中,操作所述信號(hào)處理裝置的步驟包括:
當(dāng)所述傳感器鄰所述校準(zhǔn)塊布置時(shí),校準(zhǔn)所述厚度測(cè)量裝置。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于西屋電氣公司,未經(jīng)西屋電氣公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/90107464.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備
- 網(wǎng)絡(luò)實(shí)體監(jiān)控方法及裝置
- 一種實(shí)體鏈接方法及裝置
- 一種基于深度學(xué)習(xí)的實(shí)體鏈接方法
- 實(shí)體發(fā)現(xiàn)方法及裝置
- 一種數(shù)據(jù)處理方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種實(shí)體關(guān)系識(shí)別方法、裝置及設(shè)備
- 尾實(shí)體鏈接方法、裝置、服務(wù)器及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 基于實(shí)體對(duì)齊的屬性融合方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種實(shí)體召回方法及相關(guān)裝置
- 實(shí)體表征模型的訓(xùn)練和表征方法、電子設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)





