[其他]帶圖象補償?shù)莫M縫X-射線照像用裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 88102754
• 申請日: 1988-05-12
• 公開（公告）號: CN88102754A
• 公開（公告）日: 1988-11-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬爾德·亨德里科
• 申請（專利權(quán)）人: 老代爾夫特光學工業(yè)有限公司
• 主分類號: A61B6/02
• 分類號: A61B6/02;G01T1/02;G03B42/02
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部
• 代理人: 王以平

1、帶圖象補償?shù)莫M縫X-射線照像用裝置，它包括一個X-射線源，此源穿過狹縫光闌的狹縫，以一個平面的扇形X-射線束沿著橫過該狹縫長度方向遍及一個掃描途徑，對被檢測的物體進行掃描，以便在X-射線探測器上形成X-射線影像圖；它還包括一個吸收裝置，在控制信號的控制下該吸收裝置可影響每個扇形區(qū)的X-射線束，以便控制落在被檢測物體每個扇形區(qū)中的X-射線輻射；和一個探測裝置，用來探測在X-射線束掃描運動期間由物體各扇形區(qū)即時透射的X-射線輻射量，並將此轉(zhuǎn)換成相應的信號，其特征在于：該探測裝置包括一個用于電離輻射的二維輻射劑量計，它放在被檢測物體后面，劑量計的寬度對應于該處平面的扇形X-射線束寬，其高度對應于總掃描距離，而且此劑量計至少有一個基本上平行的電極系統(tǒng)，這些電極沿掃描方向伸展，並與一個用以對吸收裝置形成控制信號的控制裝置相連，而且至少還有一個反向電極。

2、按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于：基本上平行的電極由布置在一個支承物上的窄條型電極組成。

3、按照權(quán)利要求2的裝置，其特征在于：該支承物是此輻射劑量計的一個側(cè)壁。

4、按照權(quán)利要求2的裝置，其特征在于：該支承物置于兩個相對的壁之間。

5、按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于：基本上平行的電極由拉緊在輻射劑量計框架上的絲組成。

6、按照前述權(quán)利要求中任一項的裝置，其特征在于：至少有一個反向電極是平面的二維電極。

7、按照權(quán)利要求6的裝置，其特征在于：該反向電極基本上由一個保護電極包圍。

8、按照前述權(quán)利要求中任一項的裝置，其特征在于：該反向電極被布置在輻射劑量計的一個側(cè)壁上。

9、按照前述權(quán)利要求中任一項的裝置，其特征在于：該反向電極被布置在一個分隔開的支承物上。

10、按照前述權(quán)利要求中任一項的裝置，其特征在于：該劑量計在操作時被置于防漫射用的柵板與X-射線探測器之間。

11、按照前述權(quán)利要求1～5和7～10中任一項的裝置，其特征在于：至少一個反向電極是由若干平行電極組成，這些電極與掃描方向成直角地伸展著，並與一個多路轉(zhuǎn)換裝置相連，此轉(zhuǎn)換裝置總是與掃描運動同步地將一個或多個電極接到工作電壓上。

12、按照權(quán)利要求11的裝置，其特征在于：反向電極的平行電極由繃緊的絲構(gòu)成。

13、按照權(quán)利要求11的裝置，其特征在于：反向電極的平行電極由布置在支承物上的窄條構(gòu)成。

14、按照前述權(quán)利要求1～9和11～13中任一項的裝置，其特征在于：輻射劑量計在運行時置于被檢測物體與X-射線探測器之間，並在該劑量計與該X-射線探測器之間安置一個防漫射用的柵板。

15、按照前述權(quán)利要求中任一項的裝置，其特征在于：至少若干個沿掃描方向伸展的電極是稍稍彎曲的，以補償由本裝置幾何結(jié)構(gòu)引起的失真。

16、按照權(quán)利要求15的裝置，其中為產(chǎn)生掃描運動，X-射線源及狹縫光闌能相對一個固定點作旋轉(zhuǎn)運動，其特征在于：沿掃描方向伸展的最外面的電極其外端朝外彎曲，而從這個電極到最中央的電極此彎曲減小。