[其他]鐵磁膜及使用該膜的磁頭

無效

• 申請號: 88101596
• 申請日: 1988-03-25
• 公開（公告）號: CN88101596A
• 公開（公告）日: 1988-10-05
• 發明（設計）人: 小林俊雄;中谷亮一;大友茂一;熊坂登行
• 申請（專利權）人: 株式會社日立制作所
• 主分類號: H01F10/14
• 分類號: H01F10/14;C22C38/00;G11B5/31
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 陳景峻

1、一種由鐵磁材料構成的鐵磁膜，該鐵磁材料除包括鐵作為主要成份外，還包括對于鐵是間隙可溶的元素，其特征在于：上述鐵磁材料進一步包括從Ni，Rh，Ru，Pd，Zr，Nb，Ta，Ag，Os，Ir，Pt，Au，Cr，Mo，W，Ti，Bi，V，Co和Cu一組元素中選用的至少一種元素，其濃度為0.5-5原子百分比。

2、根據權利要求1的鐵磁膜，其中對于鐵是間隙可溶的元素是從B、C、N和P中選出的至少一種元素，其在鐵磁材料中的濃度值為1-15原子百分比。

3、一種通過交替沉積主磁膜和中間膜而形成的多層鐵磁膜，其特征在于：主磁膜用由鐵磁材料構成的耐腐蝕材料形成，該鐵磁材料以鐵作為主要成份，此外還包括一種對于鐵是間隙可溶的元素，并以0.5-5原子百分比的濃度包括從Ni，Rh，Ru，Pd，Zr，Nb，Ta，Ag，Os，Ir，Pt，Au，Cr，Mo，W，Ti，Bi，V，Co和Cu中選出的至少一種元素，中間膜由與主磁膜不同的金屬膜構成。

4、一種磁頭，其特征在于至少有一個磁極的一部分是由鐵磁膜形成，該鐵磁膜由鐵磁材料構成，它除以鐵為主要成份外，包括一種對于鐵是間隙可溶的元素，還以0.5-5原子百分比的濃度包括從Ni，Rh，Ru，Pd，Zr，Nb，Ta，Ag，Os，Ir，Pt，Au，Cr，Mo，W，Ti，Bi，V，Co和Cu中選出的至少一種元素。

5、根據權利要求4的磁頭，其中對于鐵是間隙可溶的元素是從B、C、N和P中選出的至少一種元素，其在鐵磁材料中的濃度值為1-15原子百分比。

6、一種磁頭，其特征在于至少有一個磁極的一部分是通過交替沉積一主磁膜和一中間膜而形成的多層鐵磁膜，主磁膜由耐腐蝕鐵磁膜形成，該鐵磁膜由鐵磁材料構成，它除以鐵為主要成份外，包括一種對于鐵是間隙可溶的元素，還以0.5-5原子百分比的濃度包括從Ni，Rh，Ru，Pd，Zr，Nb，Ta，Ag，Os，Ir，Pt，Au，Cr，Mo，W，Ti，Bi，V，Co，和Cu中選出的至少一種元素，中間膜由與主磁膜不同的金屬膜形成。