[其他]半導(dǎo)體元件制造工藝無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 88100817 | 申請(qǐng)日: | 1988-02-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN88100817A | 公開(kāi)(公告)日: | 1988-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吉利·德勞希;奧托·庫(kù)恩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | BBC勃朗·勃威力有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/302 | 分類號(hào): | H01L21/302;B24B3/24 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理有限公司 | 代理人: | 吳秉芬,程天正 |
| 地址: | 瑞士巴登哈*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 元件 制造 工藝 | ||
1、制造半導(dǎo)體元件,尤其是制造大功率半導(dǎo)體元件的方法是用機(jī)械方式從一塊晶片(1)上至少切下一塊面積較小的元件襯底(2),這種方法的特點(diǎn)是,元件襯底(2)為圓形,是用空心鉆(4)從晶片(1)上切下的。
2、根據(jù)權(quán)利要求1的方法的特點(diǎn)是,從一塊晶片(1)上同時(shí)可切下若干塊規(guī)格相同和/或規(guī)格不同的元件襯底(2)。
3、根據(jù)權(quán)利要求1的方法的特點(diǎn)是,切割是在晶片(1)經(jīng)過(guò)為制造元件所必需的各種熱加工過(guò)程之后進(jìn)行的。
4、根據(jù)權(quán)利要求1的方法的特點(diǎn)是,所用的空心鉆(4)鉆頭(1)的內(nèi)側(cè)面為斜面,并且,在切下元件襯底時(shí)亦可同時(shí)在元件襯底的邊沿上切好為反向電壓較高的元件所需要的邊沿斜面。
5、根據(jù)權(quán)利要求1的方法的特點(diǎn)是,所用空心鉆(4)是一種粒度為25微米,密度為100(4.4克拉/立方厘米)的金屬粘結(jié)的金剛石鉆。
6、根據(jù)權(quán)利要求5的方法的特點(diǎn)是,空心鉆(4)從內(nèi)外兩側(cè)進(jìn)行冷卻,尤其是冷卻劑是通過(guò)鉆內(nèi)的冷卻劑輸入通道(9)送入的。
7、根據(jù)權(quán)利要求6的方法的特點(diǎn)是,冷卻劑用的是摻有防銹添加劑的水。
8、根據(jù)權(quán)利要求1的方法的特點(diǎn)是,晶片(1)在鉆切時(shí)固定在一個(gè)平坦的墊板(5)上。
9、根據(jù)權(quán)利要求8的方法的特點(diǎn)是,晶片用膠粘劑(6)固定在作為墊板的玻璃板上。
10、根據(jù)權(quán)利要求5的方法的特點(diǎn)是,鉆頭(7)的切削速度約為7米/秒,空心鉆(4)的進(jìn)給速度為1~2毫米/分鐘。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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