[其他]一種制備酞菁類光電導體阻擋層的材料及方法

無效

• 申請號: 88100214
• 申請日: 1988-01-04
• 公開（公告）號: CN88100214A
• 公開（公告）日: 1988-10-12
• 發明（設計）人: 汪茫;馬興法;楊士林
• 申請（專利權）人: 浙江大學;湛江市復印機工業公司
• 主分類號: G03G5/04
• 分類號: G03G5/04;G03G5/05;G03G5/06;G03G5/14
• 代理公司: 浙江大學專利代理事務所
• 代理人: 張法高

本發明涉及到用聚甲基丙烯酸甲酯作為酞菁類光電導體阻擋層的材料及其工藝方法。

屬于有機光電導體的制備方法。

酞菁類光電導體所用的阻擋層材料一直使用價格昂貴的有機硅類化合物，而且制作工藝也不很簡便。日本專利昭60-130，745曾揭示制備酞菁類光電導體時，必須在含酞菁類化合物的光生載流子發生層中加入含有1個或2個氨基的硅烷填充劑，如N-（β-氨乙基）-δ-氨丙基三甲氧基硅烷，否則該酞菁類光電導體無法充電。R.O.Loutfy等人〔J.of????Imag.Sci.，29，116-121，（'85）〕也指出，要提高酞菁類光電導體的電荷接受能力并減少暗衰，必須用含氮的有機硅化合物作為阻擋層。如以1∶20的比例，將N-甲基-3-氨丙基三甲氧基硅烷稀釋在乙醇中進行涂復。但由于含氮的有機硅化合物價格昂貴，且國內目前尚未有生產，極有必要另選一種價廉易得的性能良好的阻擋層。

本發明所提出的一種制備酞菁類光電導體阻擋層的材料及方法，旨在用價廉易得的聚甲基丙烯酸甲酯（有機玻璃）代替價格昂貴的含氮有機硅化合物，作為酞菁類光電導體的阻擋層材料，且制作阻擋層的工藝簡便。

本發明所述的方法，是用聚甲基丙烯酸甲酯（有機玻璃）經過純化、干燥后，用純凈的氯仿或四氫呋喃溶解，配制成4～8%的溶液，加蓋密封備用。用一定面積的鋁片，經5%～10%氫氧化鈉溶液處理后，用蒸餾水洗凈，烘干。將該鋁片單面浸漬入上述聚甲基丙烯酸甲酯溶液中，薄薄地涂復上一層聚甲基丙烯酸甲酯膜，50℃下烘干，即制成了酞菁類光電導體的阻擋層。阻擋層的厚度可以用調節聚甲基丙烯酸甲酯溶液的粘度和浸漬涂復的次數來控制。

如果酞菁類光電導體不用阻擋層，則該酞菁類光電導體的電荷接受能力很小。以酞菁銅-聚乙烯基咔唑光電導體為例：

如果選用其他材料作為酞菁類光電導體的阻擋層，則性能達不到要求。仍以酞菁銅-聚乙烯基咔唑光電導體為例：

續上表

由于本發明采用了聚甲基丙烯酯甲基作為酞菁類光電導體的阻擋層材料，提高了酞菁類光電導體的電荷接受能力，減少了暗衰，且充電范圍較寬，可以滿足不同酞菁類光電導體阻擋層的要求。

由于本發明采用了國內已大量生產且價廉易得的聚甲基丙烯酸甲酯作為酞菁類光電導體的阻擋層材料，可以取代國內尚未生產且價格昂貴的含氮有機硅材料，從而節省了外匯又較大幅度地降低了酞菁類光電導體的成本。提高了經濟效益和社會效益。

由于本發明采用了聚甲基丙烯酸甲酯的溶液浸漬涂復方法，容易成膜，工藝簡便，減少了設備投資，易于生產。

本發明的要點是要制備良好性能的酞菁類光電導體的阻擋層，因此對聚甲基丙烯酸甲酯和溶劑的純度有一定要求，不應由此而帶入有害雜質而對制品產生不良影響。

下面是本發明的實施例：

例：將已純化、干燥的0.01克酞菁銅與0.09克已純化、干燥的聚甲基丙烯酸甲酯混合，加入純凈的氯仿溶劑32克。攪拌，待其完全溶解以后，經超聲波作用使酞菁銅分散均勻，加蓋密封備用。用已純化。干燥的聚乙烯基咔唑配制成5%的氯仿溶液，加蓋密封，置暗處保存備用。用已純化、干燥的聚甲基丙烯酸甲酯，配成5%的氯仿溶液，加蓋密封備用。

將面積為4厘米²的鋁片，經5%～10%氫氧化鈉溶液處理后，用蒸餾水洗凈、烘干。將該鋁片單面浸漬入聚甲基丙烯酸甲酯的氯仿溶液中，薄薄地涂復上一層聚甲基丙烯酸甲酯膜，50℃下烘干;然后，仍用涂復有聚甲基丙烯酸甲酯的一面，浸漬含有酞菁銅的聚甲基丙烯酸甲酯懸浮液，薄薄地涂復上一層含酞菁銅的聚甲基丙烯酸甲酯膜，50℃下烘干;最后，仍以這個單位浸漬聚乙烯基咔唑溶液，薄薄地涂上一層聚乙烯基咔唑，于60℃下真空干燥。由此制得酞菁銅光電導板。