[其他]多源型平面磁控濺射源

無效

• 申請號: 87214297
• 申請日: 1987-10-12
• 公開（公告）號: CN87214297U
• 公開（公告）日: 1988-09-21
• 發明（設計）人: 王德苗;任高潮
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: C23C14/36
• 分類號: C23C14/36;C23C14/54
• 代理公司: 浙江大學專利代理事務所
• 代理人: 連壽金

1、一種由磁場源、陰極靶、水冷器以及屏蔽罩等組成的多源型平面磁控濺射源，其特征在于該濺射源含有一個由靜止的外磁組件和一個或多個可作旋轉運動的內磁組件[6]組成的磁場源，一個由若干個異質扇形小靶拼成的圓形平面陰極靶[8]，一個布置在陰極靶[8]上方、開有一個或若干個扇形孔、能與內磁組件[6]作同步運動的擋板[25]，以及一個優先冷卻陰極靶[8]濺射區的水冷器。

2、按照權利要求1所述的磁控濺射源，其特征在于所述的磁場源其外磁組件固定在水冷器的外膽〔1〕的外側，其內磁組件〔6〕布置在處于水冷器的水腔〔Ⅲ〕中的轉盤〔13〕上。

3、按照權利要求1和2所述的磁控濺射源，其特征在于所述的外磁組件由一個環形的下極靴〔2〕、一個環形的上極靴〔4〕、一個布置在上極靴〔4〕和下極靴〔2〕之間的圓環形磁體〔3〕，以及一個為使磁力線從上極靴〔4〕的內邊緣充分飽和泄漏的反向磁體〔5〕構成。

4、按照權利要求1和2所述的磁控濺射源，其特征在于所述的內磁組件〔6〕由一個固定在轉盤〔13〕上的扇形極靴〔ⅰ〕和布置在扇形極靴〔ⅰ〕上的V字形磁體〔ⅱ〕以及位于V字形磁體〔ⅱ〕內側的扇形磁體〔?！辰M成，扇形磁體〔?！车臉O性與V字形磁體〔ⅱ〕、圓環形磁體〔3〕相反。

5、按照權利要求1所述的磁控濺射源，其特征在于所述的陰極靶〔8〕由若干個不同材質、不同張角、相間布置的扇形小靶拼砌而成，為使陰極靶〔8〕同水冷背板〔7〕相互壓緊將螺釘〔9〕和連接壓環〔11〕、上極靴〔4〕、外膽〔1〕的若干個螺釘擰緊。

6、按照權利要求1所述的磁控濺射源，其特征在于所述的擋板〔25〕由傳動齒輪〔24〕和帶卡簧的從動齒輪〔26〕、〔27〕夾持，位于靶面上方4～6mm處。

7、按照權利要求1所述的磁控濺射源，其特征在于水冷器的冷卻水自進水管〔15〕引入，經轉軸〔12〕的中心深孔、水腔〔Ⅰ〕進入水腔〔Ⅱ〕，從內磁組件〔6〕的頂部溢出到水腔〔Ⅲ〕，由銅質出水管〔16〕引出。

8、按照權利要求1所述的磁控濺射源，其特征在于沉積合金膜時，令內磁組件〔6〕和擋板〔25〕在預定的時間內作同步旋轉。

9、按照權利要求1所述的磁控濺射源，其特征在于沉積多層膜時，令內磁組件〔6〕于各預定的時間內先后在不同扇形小靶的底部作來回擺動。