[其他]一種新結構的內磁式流體磁化處理裝置

無效

• 申請號: 87205727
• 申請日: 1987-04-01
• 公開（公告）號: CN87205727U
• 公開（公告）日: 1988-01-06
• 發明（設計）人: 劉純
• 申請（專利權）人: 甘肅省機械科學研究所
• 主分類號: C02F1/48
• 分類號: C02F1/48
• 代理公司: 甘肅省機械工業總公司專利事務所
• 代理人: 楊學久,張真

1、一種新結構的對流體進行磁化處理的裝置。它是由一個圓筒形外殼體[3]，一對堵頭[4]，一組圓柱形永磁體[1]、[5]及其支架[2]、[6]所構成。其特征是：圓柱形永磁體[1]、[5]嵌在各自的支架[2]、[6]之中；支架[2]、[6]使永磁體[1]、[5]與外殼體[3]同軸線安置，并使之與外殼體內壁之間留有間隙，各相鄰兩永磁體同磁極相對，以一定間距排列。

2、根據權利要求1所述的裝置，其特征是：永磁體〔1〕嵌在十字架形支架〔2〕之中，永磁體〔5〕嵌在人字形支架〔6〕之中。

3、根據權利要求2所述的裝置，其特征是：支架〔2〕、〔6〕由不導磁的材料制成。

4、根據權利要求1所述的裝置，其特征是：相鄰兩永磁體的間距最好是在永磁體〔1〕、〔5〕直徑的0.2倍到1.5倍之間。

5、根據權利要求1所述的裝置，其特征是：永磁體〔1〕、〔5〕的圓柱面與外殼體〔3〕內壁之間的距離最好是小于永磁體〔1〕、〔5〕的直徑。