[其他]化合物薄膜形成裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 87107161
• 申請(qǐng)日: 1987-10-21
• 公開（公告）號(hào): CN87107161A
• 公開（公告）日: 1988-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 伊藤弘基
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱電機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/30
• 分類號(hào): C23C14/30;H01L49/02;H01L27/00
• 代理公司: 中國(guó)專利代理有限公司
• 代理人: 葉凱東,吳秉芬

1、一種化合物薄膜形成裝置，包括：保持有所定真空度的真空槽，設(shè)置在該真空槽內(nèi)的襯底，向這襯底噴出蒸鍍物質(zhì)的蒸氣、并產(chǎn)生上述蒸鍍物質(zhì)的塊狀原子團(tuán)的蒸氣發(fā)生源，設(shè)置在該蒸氣發(fā)生源與所說(shuō)襯底之間并使上述原子團(tuán)的至少一部分電離的電離機(jī)構(gòu)，設(shè)置在該電離機(jī)構(gòu)與所說(shuō)襯底之間并將通過(guò)上述電離機(jī)構(gòu)而被電離了的原子團(tuán)以及設(shè)有電離的蒸鍍物質(zhì)的原子團(tuán)及蒸氣向上述襯底碰撞的加速電極，其特征在于，該化合物薄膜形成裝置備有：設(shè)置在所說(shuō)真空槽內(nèi)的內(nèi)部槽，設(shè)置在該內(nèi)部槽的內(nèi)側(cè)、用以噴射反應(yīng)性氣體的氣體噴射噴嘴，設(shè)置在該氣體噴射噴嘴的反應(yīng)性氣體的噴射方向上、用以引出電子束的電子束引出電極，設(shè)置在該電子束引出電極的反應(yīng)性氣體的噴射方向上、用以放出電子束的電子束放出機(jī)構(gòu)，在上述的內(nèi)部槽中，設(shè)置在所說(shuō)電子束引出電極及所說(shuō)電子束放出機(jī)構(gòu)的外側(cè)、用以對(duì)所說(shuō)電子束引出電極和電子束放出機(jī)構(gòu)進(jìn)行電位屏蔽的電場(chǎng)屏蔽板，設(shè)置在該電場(chǎng)屏蔽板與所說(shuō)襯底之間、用以對(duì)上述電子束引出電極及所說(shuō)電子束放出機(jī)構(gòu)進(jìn)行正電位偏置、并且將上述反應(yīng)性氣體加速的加速電極。

2、權(quán)利要求1的化合物薄膜形成裝置，其特征在于，所說(shuō)電場(chǎng)屏蔽板與電子放出機(jī)構(gòu)的電位相同或被偏置，使它對(duì)于電子束放出機(jī)構(gòu)呈負(fù)電位。