[其他]壓接觸GTO-可控硅整流器無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 87105600 | 申請(qǐng)日: | 1987-07-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1003203B | 公開(kāi)(公告)日: | 1989-02-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安德烈·杰克林;蒂博爾·帕科西;沃爾夫?qū)R默曼 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | BBC勃朗·勃威力有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L29/74 | 分類(lèi)號(hào): | H01L29/74;H01L21/60;H01L23/48 |
| 代理公司: | 中國(guó)專(zhuān)利代理有限公司 | 代理人: | 吳秉芬 |
| 地址: | 瑞士*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 接觸 gto 可控 硅整流器 | ||
1、壓接觸GTO-可控硅整流器,包括
a)一個(gè)安裝在陰極面同陽(yáng)極面之間,具有各種不同摻雜層的半導(dǎo)體片(2),
b)所述半導(dǎo)體片(2)至少在陰極面處做成臺(tái)面形,并具有由多個(gè)凸起的陰極凸臺(tái)(7)的柵極-陰極結(jié)構(gòu),這些陰極凸臺(tái)被深處的柵極區(qū)包圍,以及
c)半導(dǎo)體片(2)在其陰極凸臺(tái)(7)上總是復(fù)蓋著一層金屬化陰極層(6),陽(yáng)極面處總是復(fù)蓋著一層金屬化陽(yáng)極層;并帶有
d)一個(gè)陰極面的片形壓接件和一個(gè)陽(yáng)極面的片形壓接件(1、3),這些片形壓接件被壓在陰極層及陽(yáng)極層上,以實(shí)現(xiàn)接觸連接,其特征在于
e)壓接件(1,3)與半導(dǎo)體片(2)的壓力荷載接觸面上的平面偏差小于±5微米,和
f)壓接件(1,3)相互對(duì)準(zhǔn),以使它們中心軸之間的相互偏差小于500微米。
2、按照權(quán)利要求1的壓接觸GTO-可控硅整流器,其特征在于,陽(yáng)極面是平的,并且至少要使陽(yáng)極面的壓接件(3)在面向半導(dǎo)體(2)的那面上在其邊緣處被削平或銼園。
3、按照權(quán)利要求1的壓接觸GTO-可控硅整流器,其特征在于,壓接件(1,3)用鉬或鎢制成。
4、按照權(quán)利要求3的壓接觸GTO-可控硅整流器,其特征在于,壓接件(1,3)與半導(dǎo)體片(2)的平面偏差小于±1微米。
5、按照權(quán)利要求4的壓接觸GTO-可控硅整流器,其特征在于,壓接件(1,3)中心軸之間的相互偏差小于100微米。
6、按照權(quán)利要求1的壓接觸GTO-可控硅整流器,其特征在于,壓接件(1,3)的直徑大于20毫米。
7、按照權(quán)利要求1的壓接觸GTO-可控硅整流器,其特征在于
a)陰極凸臺(tái)(7)的寬度大于0.1毫米,
b)陰極凸臺(tái)(7)的長(zhǎng)度大于1毫米,
c)陰極凸臺(tái)(7)之間溝深度在5至50微米之間,和
d)陰極凸臺(tái)(7)的數(shù)量大于100。
8、按照權(quán)利要求1的壓接觸GTO-可控硅整流器,其特征在于陰極面壓接件(1)的直徑要如此之大,至使壓接件的邊界超出陰極凸臺(tái)(7)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專(zhuān)門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類(lèi)型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





