[其他]具有無用電極條的液晶器件及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87105511 | 申請日: | 1987-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN87105511A | 公開(公告)日: | 1988-02-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山崎舜平;間瀨晃;坂寄寬幸 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社半導(dǎo)體能源研究所 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G02F1/133;G09G3/18 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 林長安,許新根 |
| 地址: | 日本神奈*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 無用 電極 液晶 器件 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種液晶器件及其制造方法。
液晶器件已作為顯示器件而被用于微型計(jì)算機(jī)、字處理機(jī)和電視機(jī)等之中,這種顯示器包括有一對基片,在二基片之間有液晶層,和用以向液晶層施加一電場的電極裝置。電極裝置被分成多個(gè)部分,這些部分形成顯示器的像素。當(dāng)一適當(dāng)?shù)碾妷杭釉陔姌O的某一特定部分時(shí),液晶層的相應(yīng)的部分就受到一個(gè)電場;換句話說相對于電場的方向而言,或者不論是否施加電壓,液晶將改變其光學(xué)特性,而后顯示出一圖象或字符。
電極裝置,舉例說,包括多個(gè)設(shè)置在一基片內(nèi)側(cè)的X方向上的第一電極條,和設(shè)置在另一基片的相對內(nèi)側(cè)的Y方向上的多個(gè)第二電極條。這些電極條用掩模光致抗蝕劑通過印刷方法形成。即使電極的式樣是比較簡單的,光刻也必須特別精密地進(jìn)行。因?yàn)檫@種印刷加工方法需要許多步驟,終于造成這種液晶顯示器的價(jià)格上漲。
為了克服通常所存在的缺點(diǎn),本申請人提出一種改進(jìn)的加工方法,在這種加工方法中,一具有線狀態(tài)橫截面的激光束照射于制備在一基片的表面上而除了其周緣外的透明導(dǎo)電薄膜上,然后利用蒸發(fā)除去該導(dǎo)電薄膜已受照射的線狀部分,這樣留下的導(dǎo)電薄膜就形成電極或引線。用這種加工方法,省去了一個(gè)涂膜步驟,一個(gè)預(yù)烘干步驟,一個(gè)曝光步驟,一個(gè)顯影步驟,一個(gè)后烘干步驟,一個(gè)蝕刻步驟和一個(gè)去除涂復(fù)的光致抗蝕劑的步驟。
根據(jù)現(xiàn)有技術(shù),在為印刷電路板上的外部軟性接頭制備一連接區(qū)域的同時(shí)總是需要以特別高的精密度匹配一對基片和形成電極襯墊。由于這個(gè)原因,如圖1的9所示,必須在鄰近一面板的密封樹脂層處設(shè)置一專門的邊界線。
圖1示出一現(xiàn)有技術(shù)的液晶顯示器的構(gòu)型的橫截面圖。該液晶器件設(shè)置有多個(gè)沿與畫面垂直的方向縱向伸長的第一電極條2′,和多個(gè)橫向伸長的第二電極條2,以液晶層5設(shè)置在一對基片1與1′之間。在電極2及2′與密封部件6之間,設(shè)有一邊界9,這樣設(shè)計(jì)使得密封部件6不會延伸到電極條2和2′。如果密封部件6部分地遮掩電極條,那么液晶就要從面板的相應(yīng)部分被擠走,因此相應(yīng)的顯示部分就不能夠工作。邊界9的寬度為例如3至5毫米。但該邊界在制成的產(chǎn)品中并沒有什么作用,反而與液晶板的凈顯示區(qū)域相比較,該邊界使顯示器的尺寸增大。
此外,在這種軟性的電極電路里,電極條設(shè)置成相互之間的距離僅約為幾百微米,因此需要特別仔細(xì)和很高的技術(shù)來匹配基片。這使造價(jià)由于降低了產(chǎn)量而變?yōu)榘嘿F。
因此,本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種具有較大有效區(qū)域的液晶器件。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種小型的液晶器件。
本發(fā)明還有一個(gè)目的是提供一種容易制造的液晶器件。
圖1示出一現(xiàn)有技術(shù)液晶器件結(jié)構(gòu)的橫截面圖。
圖2所示是根據(jù)本發(fā)明的液晶器件的制造過程的方框圖。
圖3(A)至3(E)是表示激光束的橫截面的說明圖。
圖4A至4D所示是根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示器的部分圖。
現(xiàn)參照圖2,說明根據(jù)本發(fā)明的光路裝置的模型圖。一基片,例如是玻璃基片,帶有例如是由二氧化錫(Eg.=3.5電子伏)制成的,一待加工處理的透明導(dǎo)電薄膜被裝在一基底19上。相對于基片1,在基本上垂直于基片待加工的表面的一直線上設(shè)置一光學(xué)系統(tǒng)。用波長為248毫微米、光子能量為5.0電子伏特的激光束照射該基片。這一激光束是從一使用氟化氪的脈沖(eximer)激光器(由Questec公司售銷)發(fā)射出來,由擴(kuò)展器16在一個(gè)方向上加以擴(kuò)展,并經(jīng)過一由人造石英制成的凸柱面透鏡14加以收縮,再通過掩模13成形。該激光束從脈沖(eximer)激光器發(fā)射出來時(shí)一般具有矩形橫截面,假定效率是3%,從激光器17發(fā)射出來的激光束是350毫焦耳/秒。掩模是由石英方格玻璃制成,其內(nèi)部表面部分地設(shè)置有遮蔽材料以形成一縫隙,使激光束通過該縫隙而成形。遮蔽材料最好是耐熱材料,例如鉻、二硅化鉬(MoSi2)或類似的材料。開始產(chǎn)生的激光束的截面積是16毫微米×300毫微米,然后在凸透鏡14上被擴(kuò)展到16毫米×300毫米。激光束在凸透鏡14上的功率密度是7.3×10毫焦耳/平方毫米。因?yàn)楣獾哪芗壘嚯x是5.0電子伏特,故透明薄膜能有效地吸收光子能量,也能被有選擇地除去。
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G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
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G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





