[其他]輕小電介質透光率分離方法和設備

無效

• 申請號: 87105473
• 申請日: 1987-08-08
• 公開（公告）號: CN87105473A
• 公開（公告）日: 1988-02-24
• 發明（設計）人: 金以豐;徐晉安;孫吉甫;曹后
• 申請（專利權）人: 山西大學
• 主分類號: B03C7/00
• 分類號: B03C7/00;B07C5/344;B07C5/342
• 代理公司: 山西省專利服務中心
• 代理人: 張樂中

1、對于重量＜5mg、密度＜2mg/mm³、電阻率＞10¹⁰Ωcm、化學穩定、干燥、非易燃易爆的電介質按透光率不同進行分離的方法，其特征是使消除靜電的待分電介質于黑暗環境中單層吸附在經充電后具有發散電場的光電導體表面，然后曝光，并改變曝光后電介質的受力狀態，其中環境黑暗程度應使光電導體在所需工作過程中的暗衰電壓值≤光電導體充電后攜帶電壓的10%，光電導體的充電電壓及其電場的發散程度應使待分電介質在到達光電導體表面時被極化，并為光電導體充分吸附，曝光應在充分吸附之后開始，改變電介質的受力狀態應自曝光開始后或曝光結束后開始，曝光量和電介質受力狀態改變的程度，應使低透光率電介質在光電導體表面仍被吸附，高透光率電介質失去光電導體的吸附力并脫離光電導體或高透光率電介質減弱被光電導體的吸附力并在狀態改變后的受力作用下脫離光電導體，上述全過程可以重復使用。

2、如權利要求1所述的方法，其特征是電介質單層分布由兩次或多次差速撒布實現，即每次分撒在其承接部件運動方向的分速度與該次承接部件的運動速度不同。

3、如權利要求1所述方法，其特征是曝光光線垂直或近似垂直光電導體表面。

4、如權利要求1所述方法，其特征是改變曝光電介質受力狀況的方法可由改變光電導體與電介質在重力場中的位置關系實現，也可由引入流動氣流作用于曝光電介質實現。

5、如權利要求1所述的方法，其特征在于光電導體循環使用，在使用前均需消除原帶電荷然后重新充電。

6、實現權利要求1所述方法的設備，其特征在于這種設備包括電介質送給機構，光電作用分離機構，動力，予處理部件和附件。

-送給機構包括首次分撒電介質的部件3位于分撒部件下方承接電介質的承接部件2，聯接分撒部件，承接部件和動力的傳動部件。

-光電分離機構包括含光電導體的吸附電介質的部件1，對吸附有電介質的光電導體表面曝光的部件，改變曝光后電介質受力狀況的傳動機構或引入流動氣流的管路和工作部件

-予處理部件和附件包括在送給機構輸出端附近對電介質進行消除靜電的部件13，對光電導體進行消除所帶電荷的部件6，給光電導體充電的部件4，維持黑暗工作環境的機罩30，維持工作部件傳動關系的傳動部件，容納分離后電介質的容器12，機架，以及各工作部件的聯接固定部件

-本設備可以兩或多套相聯使用，前臺設備的輸出端做后臺設備的首次撒布部件彼此相聯，也可一套單獨成機。

7、如權利要求6所述設備，其特征在于送給機構中首次分撒部件是圓柱狀網篩3，網篩內還裝有促使網篩內電介質均勻分布的板或擋桿23承接部件是帶式傳送機構。

8、如權利要求6所述設備，其特征在于含光電導體吸附電介質的部件為圓柱體臥式布置，其余部件沿圓周分布，即上方為送給機構，與送給機構的輸出端相接，在其附近是為光電導體充電的部件4，在其側下方是為光電導體消電的部件6，在其側下方是清除光電導體表面仍吸附的電介質的機構7和導板8，在圓周的另一側由上至下依次是，一段滿足光電導體與其所承接電介質完成充分吸附所需的空間，然后在與圓柱體軸心具有同樣水平位置附近的曝光部件5，在其側下方的電介質導板。

9、如權利要求6所述的設備，其特征在于光電作用分離機構中的含光電導體吸附電介質的部件1是將有機光電導材料均勻地涂敷在圓柱狀基體的柱狀表面，其厚度應保持一致，并足以攜帶所需電量，表面應能產生使電介質在其表面處被極化的發散性電場

10、如權利要求6所述設備，其特征在于在設備機罩上開設常閉式觀察孔。

11、如權利要求6所述設備，其特征在于兩或多套相聯時后續機構的送給機構是由承接部件2承接所聯設備光電作用分離機構的相應輸出端，后續的首次分撒部件省略。