[其他]用于電解的離子交換膜無效
| 申請號: | 87104168 | 申請日: | 1987-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN87104168A | 公開(公告)日: | 1987-12-23 |
| 發明(設計)人: | 鈴木公二;塚田哲郎;齊藤義彥;新井清隆;森宏 | 申請(專利權)人: | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號: | C25B13/08 | 分類號: | C25B13/08 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 樊衛民,穆德俊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 電解 離子交換 | ||
1、用于電解的離子交換膜,該膜包含三層,第一含氟聚合物層含有作為離子交換基團的羧酸基并面向陰極;第二含氟聚合物層含有離子交換基團,電阻率比第一層低,且厚度至少為膜總厚度的50%;第三含氟聚合物層含有離子交換基團,溶脹度至少比第二層高5%,且電阻率至少比第二層低30歐姆·厘米;第一、第二和第三層按該順序層壓。
2、根據權利要求1所述的膜,其中第一層的厚度為5至50微米,第二層的厚度為50至200微米,第三層厚度為10至50微米。
3、根據權利要求1所述的膜,其中第二層的離子交換基團是磺酸基和羧酸基,第三層的離子交換基團是磺酸基。
4、根據權利要求3所述的膜,其中當相鄰層含有不同的離子交換基團時,將含有羧酸基和磺酸基的含氟聚合物的附加層插入相鄰層之間。
5、根據權利要求4所述的膜,其中附加層用由含有羧酸基的含氟聚合物和含有磺酸基的含氟聚合物以10/90至90/10的重量比形成的共混合制成。
6、根據權利要求3所述的膜,其中羧酸基的離子交換容量為0.5至2.0毫克當量/克干燥樹脂,磺酸基的離子交換容量為0.5至1.5毫克/克干燥樹脂。
7、根據權利要求1所述的膜,其中至少第三層用由犧牲材料和增強材料組成的且厚度為30至200微米的支承織物增強。
8、根據權利要求7所述的膜,其中支承織物是由犧牲纖維和增強纖維組成的機織織物。
9、根據權利要求8所述的膜,其中增強纖維的細度為30至300且,縱橫比為2至20,犧牲纖維的細度為30至300旦。
10、根據權利要求7所述的膜,其中增強材料為全氟化碳聚合物,犧牲材料為聚對苯二甲酸乙二酯、錦綸、纖維素或人造絲。
11、根據權利要求1所述的膜,其中至少在膜的陽極側或陰極側之一配置氣體釋放層。
12、根據權利要求11所述的膜,其中氣體釋放層是沒有電催化活性的親水無機顆粒的多孔層。
13、根據權利要求11所述的膜,其中氣體釋放層是表面變粗糙的膜表面層。
14、一種包含陽極室和陰極室的電極池,陽極室和陰極室用權利要求1所定義的離子交換膜隔開。
15、使用權利要求14所定義的電解池電解堿金屬氯化物的方法,其中,在陽極室中加入堿金屬氯化物水溶液,在陰極室中加入水或堿金屬氫氧化物稀水溶液。
16、用于電解的離子交換膜,該膜包含四層,第一含氟聚合物層含有作為離子交換基團的羧酸基并面向陰極;第二含氟聚合物層含有離子交換基團,電阻率比第一層低,且厚度至少為膜總厚度的50%;第三含氟聚合物層含有離子交換基團,溶脹度至少比第二層高5%,且電阻率至少比第二層低30歐姆·厘米;第四含氟聚合物層具有離子交換基團,且電阻率比第三層高;第一、第二、第三和第四層按該順序層壓。
17、根據權利要求16所述的膜,其中第一層的厚度為5至50微米,第二層厚度為50至200微米,第三層厚度為5至50微米,第四層厚度為5至50微米。
18、根據權利要求16所述的膜,其中第二和第三層的離子交換基團為磺酸基或羧酸基,第四層的離子交換基團為磺酸基。
19、根據權利要求18所述的膜,其中當相鄰層含有不同的離子交換基團時,把既含羧酸基又含磺酸基的聚合物附加層插入相鄰之間。
20、根據權利要求19所述的膜,其中附加層用由含有羧酸基的含氟聚合物和含有磺酸基的含氟聚合物以10/90至90/10的重量比形成的共混物制成。
21、根據權利要求18所述的膜,其中羧酸基的離子交換容量為0.5至2.0毫克當量/克干燥纖維,磺酸基的離子交換容量為0.5至1.5毫克當量/克干燥樹脂。
22、根據權利要求16所述的膜,其中至少第三和第四層用犧牲材料和增強材料組成的且厚度為30至200微米的支承織物增強。
23、根據權利要求22所述的膜,其中支承織物是由犧牲纖維和增強纖維組成的機織織物。
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