[其他]旋轉干燥設備無效
| 申請號: | 87103644 | 申請日: | 1987-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN87103644A | 公開(公告)日: | 1987-12-02 |
| 發明(設計)人: | 杰拉爾德·馬丁·卡爾 | 申請(專利權)人: | 伊斯曼柯達公司 |
| 主分類號: | F26B5/08 | 分類號: | F26B5/08 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 肖春京,林長安 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 旋轉 干燥設備 | ||
本發明涉及制造半導體元件過程中用于干燥諸如半導體圓片等片狀或圓片元件的旋轉干燥設備。應用生產集成電路的圓片是經過多個制造工藝步驟,包括刻蝕、涂敷、摻雜、覆鍍等步驟,直至獲得所需的多層構型。經過這些多個步驟之后,需要對圓片進行清洗,以便清除雜質及在先前操作中產生的其它粒子而為繼后的生產操作準備圓片。該圓片往往需進行兩面清洗,清洗時一般采用液體清洗劑。經過清洗步驟之后,需以不在圓片的表面上遺留下雜質的方式將該圓片干燥。半導體圓片的清潔度的要求需達到這樣的程度,即使是清潔液體的蒸汽所產生的薄膜或污斑也會成為有害的雜質。
迄今圓片的離心干燥法曾被認為是干燥半導體圓片的最佳方法,因為離心力可協助用以克服表面張力及可協助用以克服由其它形式的干燥方法造成的在圍繞著圓片的邊緣生成的水分的依附現象。在其先有技術中,旋轉干燥法通常是利用在圓片的底部表面的真空夾盤夾持該圓片的。現已發現這樣方式夾持圓片時,造成圓片的表面產生污斑。因為在旋轉過程中被陷在夾盤和圓片表面之間的液體若不是不能清除便從夾盤中漏出,并在該液體覆蓋在圓片的表面上而被干燥時,在圓片上遺留下不受歡迎的污斑。
此外,目前利用增加圓片的尺寸以改善半導體生產效率,發現增加了用真空夾盤安全夾持圓片的困難。較大尺寸的圓片上出現的任何不平衡性,會導致迅速產生克服真空吸力的抵抗力,而使圓片由夾盤上被甩下,致使造成圓片的損壞。
解決這問題的答案在于用一設計成旋轉時緊夾圓片的邊緣的旋轉干燥器。采用邊緣緊夾的旋轉器的一個代表性類型,已公開在1BM技術公開公報1975年11月第18卷第6期第1979和1980頁中。該裝置包括多個從一中心軸向外延伸的旋臂,該中心軸耦合到一驅動裝置以向該旋臂和夾持在該臂上的圓片賦予旋轉運動。然而,已發現用這種采用徑向延伸臂以在其邊緣支承圓片的旋轉干燥器類型時,在旋轉時,該臂產生相當大的湍流空氣流雜質顆粒(固體或液體)可被湍流空氣所揀拾,又再沉積于清洗過的和/或干燥過的圓片表面上。隨著半導體芯片的復雜性的增加以及由該半導體芯片制成的相應部件的尺寸不斷地減小,為保證圓片不只是充分地被清洗和干燥,而且也避免在清洗和干燥操作過程期間到處被雜質重新污染,這是個越來越重要的問題。因此,已清洗和干燥的圓片表面被旋轉干燥設備本身攪動的雜質重新污染,很顯然是極其不能令人滿意的,也減少了半導體器件的生產率。
因此,本發明的目的在于提供用于干燥半導體圓片的旋轉干燥設備,其中該圓片只在其邊緣處被一多個徑向延伸的臂接觸,其中所提供的裝置用以防止在旋轉干燥工藝中由臂的旋轉產生的扇狀影響(fan-like????effect)。
按照本發明的一個方面,提供以用于干燥諸如半導體圓片的片狀元件的旋轉干燥設備,該設備包括一個軸,安排成其一端有驅動馬達而在另一端有旋轉頂部組件以供旋轉運動之用。該頂部組件包括一頂部元件,同軸地安置在該軸的一端部上,該組件有一多個從該軸向外延伸的旋臂。一多個可動臂與該旋臂一對一樞軸地連接,且各有一片-接合部分。提供一偏移裝置用以偏移可動臂的片一接合部分到另一片-接合位置,并提供以用于移動可動臂反抗偏移裝置的力的裝置以從片一接合位置選擇地移動該片一接合部分。緊密圍繞徑向延伸臂和包括一用以基本上消除由于所述徑向延伸臂的旋轉而在片狀元件的周圍產生空氣流動的蓋罩元件的抑制裝置。
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