[其他]向高溫液體中噴注物質

無效

• 申請號: 87102178
• 申請日: 1987-02-20
• 公開（公告）號: CN87102178A
• 公開（公告）日: 1987-09-23
• 發明（設計）人: 肯尼思·威廉·貝茨
• 申請（專利權）人: 英杰托爾有限公司
• 主分類號: C21C7/072
• 分類號: C21C7/072;C21C7/04
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 李若娟

1、一種經由穿透容納熔體的容器壁，起初由一個可移除的塞子堵住其內端的通道向高溫熔體中噴注氣體的方法，該方法包括下列步驟：

(a)從容器(10)的外部將一根輸送管(24)插入通道(18)中並使該管的內端鄰近塞子(20)，該管的橫截面小于通道一個預定值；

(b)沿該管通氣體並使氣體排出容器(10)的外部，以此來冷卻鄰近塞子(20)的管子(24)和通道(18)；

(c)緊接在將氣體噴注到熔體中之前，管子(24)中形成足夠大的壓力和流量，使噴注時氣體離管速度大得足以保證氣體以射流形式而不是以氣泡形式進入熔體；

(d)將管子(24)強制推向塞子(20)，將塞子移到熔體中並以此來開始向熔體中噴注氣體；

(e)在接著進行的噴注過程中基本保持氣體壓力和流量不衰減；以及

(f)當斷定噴注完成時，減小氣體的壓力/流量，同時使熔體進入管子(24)並在其中凝固，以此來堵住管子，管子(24)小于通道(18)的量能在二者之間形成大得足以在塞子(20)一經除去之后使熔體在凝固之前滲入有限距離的空間。

2、權利要求1所述的方法，其中氣體的壓力和流量產生大于0.5馬赫，例如0.5-0.7馬赫的氣體離管速度。

3、權利要求1或2所述的方法，其中管子和通道的截面是圓的，而且管子的直徑約為通道直徑的80-90%。

4、權利要求1、2或3所述的方法，其中所述的空間為環狀且其寬度在0.5-2mm的范圍之內。

5、權利要求1、2、3或4所述的方法，其中管子的內徑為10mm，而且所述空間的橫截面積約為120mm²。

6、權利要求1至5任何一項所述的方法，其中管子和通道借氣體沿管子內部流向塞子並隨后沿管子外部流向外邊來冷卻。

7、權利要求1至6任何一項所述的方法，其中所噴注的氣體用來冷卻管子和通道，而且冷卻用的氣體壓力和流量與向熔體中噴注用的相同。

8、前述任何一項權利要求所述的方法，其中將非氣態的熔體處理物質同所述氣體一起噴注到熔體中。

9、權利要求8所述的方法，其中所述物質為散粒狀。

10、權利要求8所述的方法，其中所述物質以絲狀或棒狀溶于熔體中。

11、權利要求1至10中任何一項所述的方法，其中關閉機構（27、28）裝在管子（24）的外端並在噴注行將結束時予以啟動，以瞬時停止向管子供給氣體及/或適宜場合下的非氣態熔體處理物質。

12、權利要求1至11中任何一項所述的方法，其中熔體為金屬熔融液並向其中噴注氣體或者適宜情況下氣體加處理物質，以控制，改變或調節金屬的冶金特性。