[其他]反射屏蔽，其制作法及其在隔墊裝置中的應用

無效

• 申請號: 87100659
• 申請日: 1987-01-10
• 公開（公告）號: CN87100659A
• 公開（公告）日: 1987-11-04
• 發明（設計）人: 讓·亨利·路易·迪厄爾
• 申請（專利權）人: 布隆扎維亞航空設備公司
• 主分類號: F16L59/00
• 分類號: F16L59/00
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 吳秉芬

1、在至少是900℃的特定溫度下，作用于輻射線，特別是紅外射線的反射屏蔽(20)，其特征是：一方面它是由既光又亮的、在上述溫度時也不損壞的、至少能反射部分紅外射線的材料的第一層(24)所組成，另一方面由構成支撐材料的第二層(21)所組成，其特征之二是它至少包括插入在前兩層之間的、能阻止上一層(24)發出的射線的材料的第三層(22、23)，其特征之三是插入層(22、23)與它相鄰的兩層是密切相聯的。

2、按權利要求1所述的屏蔽（20），其特征是至少具有插入在第一層（24）和支撐材料的第二層（21）之間的兩層（22、23）。

3、按權利要求1和2所述的任一屏蔽，其特征第一層（24）是以金為主要成分。

4、按權利要求1至3的任何一條所述的屏蔽，其特征是第二層（21）組成的支撐物是以云母為主要成分。

5、按權利要求1至3的任何一條所述的屏蔽，其特征是第二層（21）組成的支撐物是有機化合物。

6、按權利要求5所述的屏蔽，其特征是第二層（21）組成的支撐物包含碳和碳化硅的混合物。

7、按權利要求1至3的任何一條所述的屏蔽，其特征是第二層（21）組成的支撐物是耐高溫的金屬化合物。

8、按權利要求1至7的任何一條所述的屏蔽，其特征是中間層（22、23）選用銅、鉻、鉑、銀、鈀、鎢、鉬為主要成分。

9、按權利要求1至8的任何一條所述的屏蔽，其特征是中間層以氮化物為主要成分。

10、按權利要求9所述的屏蔽，其特征是這種氮化物是氮化鈦和/或氮化鉿。

11、按權利要求1至10的任何一條所述的屏蔽，其特征是中間層（22、23）以氧化物為主要成分。

12、按權利要求1至11的任何一條所述的屏蔽，其特征是中間層（22、23）由陶瓷原料組成。

13、按權利要求1至12的任何一條所述的屏蔽，其特征是支撐材料（21）和反射材料（22、23、24）的相接續層都是厚度低于或等于10微米的薄層。

14、按權利要求1至13的任何一條所述的屏蔽，其特征是不同反射層（22、23、24）是在支撐物的層（21）上接續形成的。

15、按權利要求14所述的方法，其特征是不同的反射層（22、23、24）是通過沉積形成的。

16、按權利要求14所述的方法，其特征是至少有一層反射層是通過電解沉淀形成的。

17、按權利要求14所述的方法，其特征是至少有一層反射層是通過汽相沉淀形成的。

18、按權利要求14所述的方法，其特征是至少有一層反射層是通過陰極噴鍍形成的。

19、按權利要求1至13的任何一條所述至少具有屏蔽（20A、20B）的隔熱裝置，其特征是至少有一屏蔽用來阻止紅外射線，至少有一材料層（30）用來阻止超過屏蔽的熱傳導。

20、按權利要求19所述的隔熱裝置，其特征是用來阻止傳導的材料層（30）插入在屏蔽（20A、20B）和密封的保護隔層（50）之間。

21、按權利要求19所述的隔熱裝置，其特征是用來阻止傳導的材料層（30）插入在兩個屏蔽（20A、20B）之間。

22、按權利要求19至21的任何一條所述的隔熱裝置，其特征是用來阻止傳導的材料層（30）是用渣棉組成的。