[其他]射流速度測量裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 87100472
• 申請日: 1987-01-23
• 公開（公告）號: CN87100472A
• 公開（公告）日: 1987-11-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅杰特·查爾斯·布倫德米爾
• 申請（專利權(quán)）人: 美商貝洛特公司
• 主分類號: G01P5/18
• 分類號: G01P5/18
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 吳增勇,吳秉芬

1、一種用于測量液體流速的射流速度測量裝置，該裝置測量一次電子信號和二次電子信號之間的時(shí)延，該一次電子信號是由第一光敏器件由于來自光源的第一光束被射流的部分表面所反射的結(jié)果而產(chǎn)生的，而二次電子信號是由第二光敏器件由于來自光源的第二光束被射流的基本相同的部分表面在下游反射的結(jié)果而產(chǎn)生的，其特征在于：該裝置包括以下部件的組合：

-一個(gè)被設(shè)置于鄰接于流體射流的外殼，該外殼擁有一個(gè)首面。

-第一分路光纖束，它被固定在與所述首面鄰接的所述外殼處，以便將從光源來的第一光束發(fā)射到射流的部分表面并反射到第一光敏器件。

-第二分路光纖束，它被固定在所述外殼并終接到靠近所述首面而且在相對于所述第一光纖束的所述終端的下游處，當(dāng)射流的這部分表面已經(jīng)在下游流離第一光束時(shí)，所述第二光纖束就將來自光源的第二光束發(fā)射到基本上是射流的相同部分的表面上，所述第二光纖束將沿所述第二光纖束反射回來的第二光束射向第二光敏器件；以及

-漿渣-偏轉(zhuǎn)裝置，它被設(shè)置在所述外殼的所述首面附近，以便使?jié){渣偏離上述外殼的所述首面，從而防止?jié){渣堆積在所述首面上，以免阻礙第一和第二光束射向和射離射流的射程。

2、如權(quán)利要求1中所陳述的射流速度測量裝置，特征在于：其中，所述外殼可被可調(diào)地設(shè)置在鄰近于射流的鄰接面處。

3、如權(quán)利要求1中所陳述的射流速度測量裝置，特征在于：其中所述外殼還包括：

-第一部件，它限定一條在本裝置的使用中是被接到一個(gè)氣壓源的第一通道。

-第二部件，它被設(shè)置在所述第一部件的附近，該第二部件限定了第一孔道和第二孔道以便在其內(nèi)對應(yīng)地容納所述第一和第二光纖束，以使所述第一和第二光纖束的所述終端可被設(shè)置得與所述外殼的所述首面基本上在同一平面上，所述第二部件還限定了一條可與所述第一通道進(jìn)行氣體交流的第二通道，

-第三部件，它被設(shè)置在所述第二部件的附近處，以使所述第二部件被設(shè)置在所述第一和第三部件之間，所述第三部件限定了一條可與所述第二通道進(jìn)行氣體交流的第三通道，所述第三部件還限定了一條（相對于第三通道）為橫向設(shè)置、并可與所述第三通道進(jìn)行氣體交流的第四通道。

4、如權(quán)利要求3中所陳述的射流速度測量裝置，特征在于：其中，所述第三部件限定了一條（相對于第四通道）為橫向設(shè)置的第五通道，所述第三部件還限定了從所述橫向的第五通道延向所述第二部件、并可與之進(jìn)行氣體交流的第六和第七通道;

所述第二部件還限定了第八和第九通道以使第八和第九通道可對應(yīng)地與所述第三部件的第五和第六通道進(jìn)行氣體交流;

所述第二部件還限定了第一和第二強(qiáng)制通風(fēng)道，以使所述第一和第二強(qiáng)制通風(fēng)道可對應(yīng)地與所述第七和第八通道進(jìn)行氣體交流，以便在本裝置的使用中，所述第一和第二強(qiáng)制通風(fēng)道可從氣壓源產(chǎn)生壓力，

由所述第二部件限定的第一和第二孔道，使得所述第一和第二孔道可分別從所述第一和第二強(qiáng)制通風(fēng)道延向所述第一和第二終端，以使從所述強(qiáng)制通風(fēng)道延伸出的氣體屏障，通過所述孔道和所述終端，以防止鄰近所述各終端的漿渣在其上堆積。

5、如權(quán)利要求3中所陳述的射流速度測量裝置，特征在于：其中，所述第一部件限定了第一和第二螺孔，以便將所述外殼可調(diào)地緊固在離開射流鄰接表面的一個(gè)預(yù)定距離處。

6、如權(quán)利要求4中所陳述的射流速度測量裝置，特征在于：其中，所述第一和第二孔道是由所述第二部件限定出的細(xì)長縫，所述第二部件還包括：

-所述第一孔道的第一唇狀物，它被暴露在鄰近于射流的鄰接表面，所述第一唇狀物延向所述第一光纖束的所述終端，以使一層第一氣體的漿渣-偏轉(zhuǎn)屏障可被引導(dǎo)越過所述第一光纖束的所述終端;

-所述第二孔道的第二唇狀物，它被設(shè)置在鄰近射流鄰接表面處，所述第二唇狀物延向所述第二光纖束的所述終端，以使第二層氣體的漿渣-偏轉(zhuǎn)屏障可被引導(dǎo)越過所述第二光纖束的所述終端。

7、如權(quán)利要求1中所陳述的射流速度測量裝置，特征在于：它還包括：

第三光纖束，它被固定到所述外殼的所述首面附近、并相對于所述第二光纖束的所述終端的更下游處;當(dāng)在這部分射流表面已經(jīng)在更下游越過所述第二光纖束的所述終端時(shí)，所述第三光纖束就將從光源來的第三光束發(fā)射到射流的基本同一部分表面上，所述第三光纖束將沿所述第三光纖束反射回來的第三光束射向第三光敏器件，從而提高本測量裝置在測量較快的射流時(shí)靈敏度。