[其他]濺射涂層設(shè)備用的靶中的陰極/接地屏蔽配置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 86107820
• 申請日: 1986-11-14
• 公開（公告）號: CN86107820A
• 公開（公告）日: 1987-11-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 阿爾伯特·丹尼爾·格拉瑟
• 申請（專利權(quán)）人: 西屋電氣公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部
• 代理人: 王申,王憲模

1、一種濺射涂層設(shè)備用的靶，它包括一個陰極和一個接地屏蔽，陰極有一個在其上面配置了濺射靶物質(zhì)的外表面，接地屏蔽與陰極有聯(lián)系，它對陰極的空間位置關(guān)系是使兩者之間形成一個將陰極和接地屏蔽互相隔開的間隙，這種靶的特征在于，該間隙(96)完全填滿了電絕緣材料(102)。

2、一種如權(quán)利要求1所述的濺射涂層設(shè)備用的靶，其特征在于，上述絕緣材料（102）為陶瓷絕緣材料。

3、一種如權(quán)利要求2所述的濺射涂層設(shè)備用的靶，其特征在于，上述陶瓷絕緣材料由氧化鋁構(gòu)成。

4、一種如權(quán)利要求1、2或3所述的濺射涂層設(shè)備用的靶，其特征在于，陰極（56）具有安裝在上述陰極外表面（60）的周邊部分（66）上的機構(gòu)（90），該機構(gòu)形成一個連續(xù)的凸緣（94），該凸緣向外延伸，超出上述周邊部分（66），懸在上述間隙（96）和與周邊部分（66）隔開的接地屏蔽（84）毗鄰邊緣（86）的上面。

5、一種如權(quán)利要求4所述的濺射涂層設(shè)備用的靶，其特征在于，形成上述凸緣（94）的機構(gòu)（90）由在上述陰極的周邊部分（66）之上的沿周緣圍繞上述陰極（56）的外表面（60）延伸的條板配置而成。

6、一種如權(quán)利要求5所述的濺射涂層設(shè)備用的靶，其特征在于，上述濺射靶材料（58）與一個止動圈（65）相結(jié)合，該止動圈圍繞濺射靶材料并被支承在上述陰極（56）外表面（60）的上述周邊部分（66）上，上述條板（90）被緊固在上述止動圈（65）上。