[其他]兩級水力噴射與磨料噴射的能量吸收器

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 86106972
• 申請日: 1986-11-05
• 公開（公告）號: CN86106972A
• 公開（公告）日: 1987-05-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 穆罕默德·哈希什
• 申請（專利權(quán)）人: 流程系統(tǒng)公司
• 主分類號: B26F3/00
• 分類號: B26F3/00
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 周備麟,黃力行

1、一種用于水力噴射和加磨料的水力噴射切割裝置的吸收器，包括：

位于接受切割射流噴口通道內(nèi)的入口裝置；

與該入口裝置相連，用于吸收被接收射流動能的阻尼裝置；

該阻尼裝置包括用以產(chǎn)生一股反向液流的裝置(該反向液流與所接收射流方向相反)和為加速反向液流速度的一個收縮一擴張表面；

與該阻尼裝置相連并進而從該阻尼裝置沿著液體通道來吸收噪音的噪音吸收裝置；

與該聲音吸收裝置相連的，用以從吸收器中排出液體與小顆粒物質(zhì)的出口裝置。

2、如權(quán)利要求1所述的吸收器，其中所述噪音吸收裝置還包括：

一個可充有予定液面高度液體的腔室;

一個該腔室的入口，它是這樣構(gòu)成的，使反向流液體從阻尼裝置處通至液面下的所述腔室;

一個所述腔室的出口，可以排出多余的液體。

3、如權(quán)利要求1所述的吸收器，其中所述腔室是園柱形的。

4、如權(quán)利要求1所述的收集器，其中所述入口裝置是一根管子，它具有比上述阻尼裝置更小的直徑。

5、如權(quán)利要求4所述的吸收器，其中所述入口裝置可調(diào)成傾斜的，以使射流對中。

6、如權(quán)利要求1所述的吸收器，其中所述阻尼裝置還包括一個用以提高回流速度的表面。

7、如權(quán)利要求6所述的吸集器，其中所述表面包括一個收縮表面和一個擴張表面。

8、如權(quán)利要求1所述的吸收器，其中所述收縮和擴張表面連接成一個喉部，它離所述入口裝置比所述回流產(chǎn)生裝置更近。

9、如權(quán)利要求6所述的吸收器，其中所述表面還包括所述阻尼裝置里許多環(huán)所組成的內(nèi)表面。

10、如權(quán)利要求9所述的吸收器，其中所述的環(huán)含有相同的外徑。

11、如權(quán)利要求10所述的吸收器，其中沿著射流的跡線第一環(huán)的內(nèi)徑比末一環(huán)的內(nèi)徑要小。

12、用于水力噴射或帶磨料的水力噴射切割系統(tǒng)的吸收器，包括：

第一腔室確定裝置，有一個接受軸間切割射流的入口端及一個在射流行程總方向與入口端相隔的末端;

通道確定裝置，和處于所述入口端和末端間的第一腔室保持液體連通，由此可以從所述腔室排出用過的射流液體，所述腔室至少在末端與通道確定裝置之間形成一個部分區(qū)域，以增加從末端向所述腔室入口端的回流液體的速度。

13、按權(quán)利要求12所述的吸收器，其中通道一確定裝置連通腔室的部位離入口比離末端要近。

14、按權(quán)利要求12所述的吸收器，其中腔室內(nèi)壁在所述區(qū)段沿回流方向收縮以增加回流速度。

15、按權(quán)利要求14所述的吸收器，其中所述腔室壁是由許多環(huán)狀的元件組成的，其內(nèi)徑沿著回流方向普遍減小。

16、按權(quán)利要求12所述的吸收器，包括一個第二腔室，它可以充以液體通常到預(yù)定的液面;

所說的通道確定裝置被設(shè)計成能把用過的射流液體排入低于其中液面的所述第二腔室，并且

該裝置允許從第二腔室排出過多的液體。

17、按權(quán)利要求12所述的吸收器，包括一個腔室確定本體在腔室的入口端有一個小孔裝在小孔內(nèi)的導(dǎo)管裝置，并在接受射流進入腔室的入口端和腔室保持液體連通;

用于在小孔內(nèi)安裝導(dǎo)管裝置的安裝機構(gòu)，當射流不對中時，根據(jù)射流施加在導(dǎo)管裝置上的力，能自動定心。

18、用于水力噴射和帶磨料的水力噴射切割系統(tǒng)的吸收器，包括：

確定第一腔室的裝置，有一個用以接受軸向切割射流的入口端和一個在射流行程總方向與入口端相隔的末端;

確定通道裝置和居于入口端與末端之間的第一腔室保持液體連通，由此可以從腔室排出用過的射流液體;

第二腔室，可充以液體到一個預(yù)定的液面;

該通道確定裝置可用來將用過的射流液體排至該液面以下的第二腔室;

能從第二腔室排出多余液體的裝置