[其他]顆粒的制備方法無效
| 申請號: | 86106645 | 申請日: | 1986-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN86106645A | 公開(公告)日: | 1987-06-03 |
| 發明(設計)人: | 本田哲三;木戶公和 | 申請(專利權)人: | 東洋工程株式會社 |
| 主分類號: | B01J2/16 | 分類號: | B01J2/16 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 肖爾剛 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顆粒 制備 方法 | ||
本發明涉及一種顆粒的制備方法,特別是,通過放大或噴涂小的顆粒來制取所需要的顆粒大小的一種方法。具體的說,本發明涉及一種用于化學工業,制藥工業,食品工業或其它工業對各種各樣的固體材料制成特定要求的粒度的顆粒產品的制備方法。
作為用于噴涂顆粒的制備方法和技術,已經有許多種方法被推薦并已在實際使用。
選擇這些方法中的一種合適的方法,就小批量生產而言不論是在技術上還是在經濟上考慮,與選擇其它的方法相比沒有什么多大差別。然而,在大批量生產條件下,除如何選擇合適的生產方法外,尚存在著許多問題有待解決,因為設備的適應性對于要制備的材料的方法選擇的影響將直接地影向到生產效率。
人們都了解,采用流化床法,噴射床法,和噴射-流化床系統都是適用于大量生產的。
因為這三種方法與其它方法相比操作穩定性更好,在上述三種系統中一個迫切的,重要的技術和經濟問題需要進一步改進能大量生產高級產品的方法。
這些方法中,都包括一個對大量的顆粒的收集處理。為了改進其性能對于導入試驗和誤差試驗是必要的。
在這些方法中,對于保持噴涂材料的細的噴射液體滴與要制備的懸浮在氣流中的顆粒之間的盡可能多相碰的和粘結機會是非常重要的。
對于制備中的顆粒的擴大或噴涂來說,減少處于濕潤狀態的顆粒相互之間相碰的機會更重要,既使這種狀態可能存在很短時間,也是如此,因為制備中的顆粒的表面,受到細液體噴射滴的粘著時被弄濕了。另外,由于液體珠的固化或干燥而使要制備的顆粒處于濕潤狀態到消失的持續時間如何控制也是非常重要的,該固化的液體珠都附著在用尺寸擴大技術制備的顆粒的表面上。
必須遵守以上三個重要的要求,同時取得實施該方法的最低可能的能量消耗。
盡管美國專利No.4343622所公開的方法與本發明的方法在概念上有所不同,它是采用前面所提到的流化床系統。
在這種方法中,采用一種輔助氣體來形成在流化床中實行噴射的空隙。這種方法的特征在于用于實現噴射的這些空隙是由輔助氣體形成的,送入流化床的這種輔助氣體,處于這種狀態即它不到達或越過流化床表面。這樣它就不是一個噴射-流化床系統,但是,因為要制取的顆粒的速度與顆粒在流化容器中上升的距離卻是有限的,它基本上仍屬流化床系統。
在本方法中,向上噴射噴涂材料的噴咀都分布在流化容器中的一個帶孔眼的平板上(氣體分配板或阻擋板)以形成一個流化床,由噴咀噴出的細液體珠以一個小于20°的傾斜噴射角噴入流化床的空隙中。為了在每一個噴射系統之上的流化床中形成和保持一個孔,一種輔助氣體在垂直方向以很高的速度從一個環形氣體流束的開口處流出,該開口以同心,環形和收斂的狀態同繞每個噴咀。由于對輔助氣體施加一些約束,也就是,讓它不形成一個上面所述的噴射床,而且具有一個小的噴射角度,這種方法帶有一些缺點即噴射角小;噴射流通過的孔的直徑小;噴入的噴涂材料的細液體珠與制備中的顆粒之間的相碰和粘著的空間小;實現噴射的空隙的數目也就是噴咀在流化床的單位面積上的數目大。
本發明者所完成的發明描述如下,通過長時間的研究和發展,終于獲得以下成果,從按照公開的日本專利申請第12895/1985號和其它一系列有關的專利申請,通過在顆粒的靜態層中形成一個噴射床以制取顆粒的方法開始,已發現在流化床中的一個形成噴射床的系統,也就是,一個采用噴射-流化床系統制備顆粒的方法。
具體地說,本發明提供一種噴射流化床系統制取顆粒的方法,其特征是:
(1)目的在于給所有的制備中的顆粒提供機會使它與噴入的噴涂材料的液體珠在容器中能夠盡可能頻繁而均勻地相碰,通過增加熱和材料傳遞的自由度,對制備中的顆粒加熱、冷卻和干燥,采用一個流化床,在該流化床中制備中的顆粒的動量在一個給定的體積內的空間保持在一個較高的水平上,作為適合于該目的空間,當顆粒處于靜態(非流化)時,固體顆粒的床的高度在0.10至1.00米范圍內,當顆粒處在流化狀態時,其高度在0.30至1.50米范圍內。
(2)目的在于減少制備中的顆粒與顆粒之間的相互碰撞的機會,提供一個使該顆粒能在氣流中自由漂浮的空間,提供時間,在此時間內使顆粒表面上的濕潤狀態,由于粘著在單個制備中的顆粒表面的細噴液珠的固化或干燥而消失,將穿過流化床的噴射床的位置都有間隔地安置在其中更多地直接安置在流化床的上面,提供一個超高空間以便使在噴射床內的制備中的顆粒上升并由氣體中分離出來,該超高空間的高度在2至10米范圍內;
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