[其他]光電型器件及其制造方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 86105984 | 申請(qǐng)日: | 1986-08-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN86105984A | 公開(公告)日: | 1987-04-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邑田健治;岸靖雄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三洋電機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L31/04 | 分類號(hào): | H01L31/04;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理有限公司 | 代理人: | 肖春京,吳秉芬 |
| 地址: | 日本守口市*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光電 器件 及其 制造 方法 | ||
1、一種光電器件,其特征在于它包含有:
一個(gè)具有絕緣表面的基片,
若干個(gè)第一電極,它們形成在所述的基片的絕緣表面上,并分屬于各個(gè)光電轉(zhuǎn)換元,
半導(dǎo)體光敏層,它形成在所述的基底的絕緣表面上并覆蓋著所述的第一電極。
若干個(gè)導(dǎo)體,它們形成在第一電極之上并在半導(dǎo)體光敏層之下,由所述的第一電極之間的間隔限定的邊緣部分,
若干個(gè)絕緣體,它們形成在靠近所述導(dǎo)體的地方。
第三電極,它形成在所述的半導(dǎo)體光敏層上,
而且,
用能量束從所述的第二電極一側(cè)向所述的絕緣部位照射,由此將半導(dǎo)體光敏層和第二電極分?jǐn)嚅_來以形成一個(gè)個(gè)的光電轉(zhuǎn)換元。
用能量束從所述的第二電極一側(cè)向所述的導(dǎo)體部位照射,由此將每一光電轉(zhuǎn)換元的第二電極與相鄰的光電轉(zhuǎn)換元的第一電極進(jìn)行連接。
2、一種如權(quán)利要求1所述的光電器件,其特征在于所述的導(dǎo)體是沿第一電極長(zhǎng)度方向延伸而成的,其端部位于第一電極在長(zhǎng)度方向的兩端端頭的內(nèi)側(cè)。
3、一種如權(quán)利要求1所述的光電器件,其特征在于所述的絕緣體是沿第一電極長(zhǎng)度方向延伸而成的,其端部位于第一電極在長(zhǎng)度方向的兩端端頭的外側(cè)。
4、一種如權(quán)利要求1所述的光電器件,其特征在于所述的導(dǎo)體和絕緣體是分別沿第一電極長(zhǎng)度方向延伸而成的。
5、一種如權(quán)利要求4所述的光電器件,其特征在于所述的導(dǎo)體和絕緣體在所述的光電轉(zhuǎn)換器的寬度方向上是彼此分離,并且是彼此平行的。
6、一種如權(quán)利要求4所述的光電器件,其特征在于所述的導(dǎo)體和絕緣體是彼此相接觸的。
7、一種如權(quán)利要求4所述的光電器件,其特征在于所述的絕緣體是以?shī)A住導(dǎo)體的方式形成的。
8、一種如權(quán)利要求7所述的光電器件,其特征在于所述的夾住導(dǎo)體的絕緣體之一是在各第一電極之間的間隔部位形成的。
9、一種如權(quán)利要求1所述的光電器件,其特征在于所述的導(dǎo)體是用熔結(jié)導(dǎo)電的膏狀物形成的。
10、一種如權(quán)利要求1所述的光電器件,其特征在于所述的絕緣體是用熔結(jié)絕緣的膏狀物形成的。
11、一種制造所述的光電器件的方法,其特征在于它的制造工序包括:
(a)、制備具有絕緣表面的基片,
(b)、在所述的基片的絕緣表面上形成一系列分屬于各個(gè)光電轉(zhuǎn)換元的第一電極。
(c)、在所述的基片的絕緣表面上,用覆蓋住各個(gè)第一電極的方式形成一層連續(xù)到各個(gè)光電轉(zhuǎn)換元的半導(dǎo)體光敏層。
(d)、在所述的半導(dǎo)體光敏層上形成連續(xù)到各光電轉(zhuǎn)換元的第二電極。
(e)、在所述的第二電極之下,或在由第一電極之間的間隔限定的一個(gè)邊緣部分的附近,形成導(dǎo)體。
(f)、在相鄰于所述的導(dǎo)體的所述的第二電極之下形成絕緣體。
(g)、采用使能量束從第二電極一側(cè)向絕緣部分照射的方法,將半導(dǎo)體光敏層和第二電極分?jǐn)嚅_,以形成一個(gè)個(gè)的光電轉(zhuǎn)換元。
(h)、采用使能量束從第二電極一側(cè)向?qū)w部分照射的方法,在一光電轉(zhuǎn)換元的第二電極與相鄰的光電轉(zhuǎn)換元的第一電極之間,通過所述的導(dǎo)體,形成連接。
12、一種如權(quán)利要求11所述的制造光電器件的方法,其特征在于所述的工序(e)還包括有一個(gè)在第一電極之下形成導(dǎo)體的工序。
13、一種如權(quán)利要求12所述的制造光電器件的方法,其特征在于所述的工序(b)還包括有下述工序,在所述基片的絕緣表面上預(yù)定位置處形成導(dǎo)體之后,分?jǐn)嗨龅牡谝浑姌O以形成相應(yīng)的一個(gè)個(gè)的光電轉(zhuǎn)換元。
14、一種如權(quán)利要求11所述的制造光電器件的方法,其特征在于所述的工序(f)還包括有一個(gè)在所述的半導(dǎo)體光敏層之下形成導(dǎo)體的工序。
15、一種如權(quán)利要求14所述的制造光電器件的方法,其特征在于所述的工序(c)還包括一個(gè)在所述的導(dǎo)體已經(jīng)形成之后再形成半導(dǎo)體光敏層的工序。
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H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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