[其他]鍍鎳溶液雜質專用處理劑無效
| 申請號: | 86104113 | 申請日: | 1986-11-24 |
| 公開(公告)號: | CN86104113A | 公開(公告)日: | 1988-06-08 |
| 發明(設計)人: | 陳泳森;沈漢明 | 申請(專利權)人: | 上海電鍍廠 |
| 主分類號: | C25D3/12 | 分類號: | C25D3/12;C25D21/18 |
| 代理公司: | 上海市機電工業管理局專利事務室 | 代理人: | 黃冠華 |
| 地址: | 上海市共和新*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 溶液 雜質 專用 處理 | ||
【權利要求書】:
1、一種鍍鎳溶液雜質專用處理劑,它由離子交換劑,活性炭和助濾劑配制而成,其特征在于,有機硫化物和有機磷酸酯鈉、鹽是以顆粒活性炭或顆粒硅藻土為載體。
2、根據權利要求1所述的專用處理劑,其特征在于有機硫化物是通式為化合物系列,R1-R4為甲基或乙基或苯基,X為S或S-S或S-Ni-S,有機磷酸酯鈉鹽為二(2-乙基-己基)磷酸酯。
3、根據權利要求1或2所述的專用處理劑,其特征在于有機硫化物和有機磷酸酯鈉鹽溶于氯仿或乙醇有機溶劑被顆粒活性炭或顆粒硅藻土吸附后去除有機溶劑,可按需配比。
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