[其他]謹慎的使殼體穿透敏感的表土層或敏感的結構用的方法和裝置

無效

• 申請號: 86103916
• 申請日: 1986-06-03
• 公開（公告）號: CN86103916A
• 公開（公告）日: 1986-12-17
• 發明（設計）人: 斯溫-埃里克·布杰金格;斯溫·格朗·安德森
• 申請（專利權）人: 桑德維克·羅克器具公司
• 主分類號: E02D7/28
• 分類號: E02D7/28
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 王憲模,王申

本發明涉及一種實質上不用移動或破壞敏感的表土層或敏感的結構的情況下把殼體向下打入不受擾動的地面的方法和裝置，在殼體內可以把樁或其它類似的構件打下作為基礎或在更堅實的地面內作拉樁用。

敏感的表土層，例如是一種早期有人居住的經濟文化地區的文化古跡層，這種古跡層可以在地面下發現，有3米深。文化古跡層是一種知識寶藏可以供考古學家了解較早年代的生命和人類的活動，文化古跡層在一些國家受到法律的保護，不允許受到毀壞。

敏感的結構，例如：古老的建筑物的未經砍削成型的石壁，尤其是當工作進行到在敏感結構內和附近加固基礎或打護墻板時，這種打樁工作必須非常謹慎小心地進行，否則就要出現永久性的損傷。

本發明的特征可以在附屬的權利要求中找到，對其更為詳細的說明見下：

本發明的主要特征是一個殼體圍著的利用壓縮空氣操作的鉆孔裝置，所述的鉆孔裝置在它們的下端裝有可以調節的排氣通道，該通道使壓縮空氣的大部分向上方向流送，使它在鉆桿和殼體之間將鉆屑物一起帶走。基于排氣通道是可調的這一事實，使向下朝著鉆頭方向的定向壓縮空氣部分的氣流強度與需要鉆透的材料的性質相適應。利用噴射作用把所述的部分壓縮空氣沿著鉆頭側壁上的凹槽向上導引。本發明還涉及到有一個下部窄通氣口和向上連續增加通道面積的凹槽設計。所述的設計不可能使鉆屑物向上堆積在它們的通道上。

本發明選用的具體實施例參照附圖描述如下：

圖1，表示根據本發明所述裝置的縱向剖視圖。圖1A至1E，表示沿著圖1的A，B，C，D和E方向的剖視圖。

圖2，表示一個相應于圖1并顯示了壓縮空氣流動方向的視圖。

圖3示意地表示在敏感區表土層打樁時不同的工作狀態。

圖4A至4D示意表示在敏感區地基打樁加固建筑物時的不同工作狀態。

圖1以剖面的方式公開了表土層打樁用的裝置，該裝置包括一個旋轉的鉆頭1，其外圍是殼體2，鉆件的下部是鉆頭，在圖中鉆頭是作為一個分離的部件表示，鉆頭由一個導向裝置11，擴錐12和導向鉆13組裝成，鉆件也包括供操作鉆件的壓縮空氣用的排氣通道14，這些部件本身都是已知的。根據本發明，排氣通道14裝有控制閥141，它響應由導向鉆內出來的土壤的反向壓力的增加或減小對壓縮空氣進行開和關。在控制閥141的上面有排氣通道142供大部分壓縮空氣排放用，所述的排氣通道142裝有閥143，其通氣孔的面積與鉆孔裝置欲穿透的材料相適應。閥143是易拆卸的，如果需要，在開始一個新的鉆孔周期前，為了粗調，可進行更換。一小部分壓縮空氣通過控制閥141后對鉆頂周圍作小心的沖洗。之后，利用壓縮空氣經過閥143從排氣通道142向上方向沖出的噴射作用使這一小部分壓縮空氣沿著鉆頭側壁上的凹槽144向上抽吸，將凹槽144設計成帶有窄的下部進氣口并且逐步向上增加進氣通口的面積，使鉆下的屑料不可能堆積在其向上運動的通道的任何地方而使通道堵塞。

圖2以剖面圖的方式公開了壓縮空氣通過鉆體的路徑。壓縮空氣以很大的動力急速流過排氣通道14（箭頭4所示）并且利用控制閥141的限制使壓縮空氣受到相當大的向后的推力。于是，空氣繼續通過向上傾斜的帶有閥143（箭頭B所示）的排氣通道142，然后進一步向上與鉆件和殼體之間的鉆屑料一起向上（箭頭C所示）。一小部分壓縮空氣通過控制閥141（箭頭D所示）流動，用來小心地對鉆頭周圍進行沖洗。然后利用壓縮空氣通過閥143從排氣通道142向上方向沖擊的噴射作用使這一小部壓縮空氣沿著鉆體（箭頭E所示）側壁上的凹槽144向上抽吸。

圖3表示在把殼體和鉆體向下打進表土層，正好打到低于文化古跡層的底部邊緣位置時的不同工作狀態，在鉆體向上提出之后才能通過殼體進行打樁，這樣不至于破壞文化古跡層。工作狀態1表示可移動的帶殼體和安裝鉆1的鉆塔，把鉆塔移動到需要進行鉆孔的地方。

工作狀態2表示殼體2向下打入表土層，并且通過文化古跡層。

工作狀態3表示把殼體向下打進表土層，使它剛好打到低于文化古跡層的底部邊緣的位置。

工作狀態4表示樁16降下進入殼體。

工作狀態5表示樁16向下打進表土層預定的深度。

工作狀態6表示樁16打到予定的深度后做出反應（打樁打到摩擦材料時停止）然后在殼體中入混凝土18。

圖4A-4D公開在殼體和鉆體向下打通未經砍削成形石頭的底基時的不同工作狀態。

工作狀態1（圖4A）表示基礎19在某區域20內已經受到加固時，打樁裝置能進入底基上部的地面上的情況;